[發(fā)明專利]一種高溫擴(kuò)散燒結(jié)與粉末熱鍛制備高硅鋼帶材的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711368387.6 | 申請日: | 2017-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN108044099A | 公開(公告)日: | 2018-05-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 丁藝;羅豐華;張德敏;王翔;白云波;王俊峰 | 申請(專利權(quán))人: | 中南大學(xué) |
| 主分類號: | B22F1/00 | 分類號: | B22F1/00;B22F3/18;B22F3/17;B22F3/10;C22C38/02;C22C33/02 |
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| 地址: | 410083 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高溫 擴(kuò)散 燒結(jié) 粉末 鍛制 硅鋼 方法 | ||
一種高溫擴(kuò)散燒結(jié)與粉末熱鍛制備高硅鋼帶材的方法,本發(fā)明選取還原Fe粉與水霧化Fe粉,按照4:6~6:4的比例混合,再添加Si粉,形成Fe?Si混合粉。模壓成方形坯,再加熱到960~1030℃實現(xiàn)Fe相奧氏體化,經(jīng)多次鍛造后終鍛溫度為860~930℃,然后將粉末熱鍛坯在1080~1180℃真空或還原氣氛保護(hù)燒結(jié),使Fe粉顆粒冶金結(jié)合,而Si與Fe實現(xiàn)部分合金化,通過多次冷軋、低溫?zé)Y(jié),最后在1280~1350℃高溫擴(kuò)散燒結(jié),實現(xiàn)均質(zhì)合金化,獲得含4.5~6.7%Si的0.1~0.5mm厚,密度≥7.38g/cm
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于金屬材料的制備與加工領(lǐng)域,具體涉及高硅鋼薄帶材的粉末熱鍛和軋制變形的方法。
技術(shù)背景
軟磁性材料的剩磁與矯頑磁力都很小,即磁滯回線很窄,它與基本磁化曲線幾乎重合,主要用于電感線圈、變壓器、繼電器和電機(jī)的鐵心。Fe-Si合金最大磁導(dǎo)率隨Si含量發(fā)生變化,分別在Si的質(zhì)量百分比(以下同)為2%和6.5%附近出現(xiàn)了兩個最大磁導(dǎo)率的峰值,分別達(dá)到10000和25000。Fe-Si合金的最大磁導(dǎo)率在軟磁材料中并沒有絕對優(yōu)勢,如坡莫合金的最大磁導(dǎo)率可以達(dá)到200000。然而Si<4.5%的Fe-Si合金薄板制造成本低,因此硅鋼片又稱為電工鋼片或硅鋼薄片,是一種非常重要的磁性材料。
而Si>4.5%時,F(xiàn)e-Si合金在540℃溫度以下會發(fā)生B
對于Si含量在4.5~6.7%之間的鐵硅系合金,一般稱為高硅鋼,其中硅含量6.5%的高硅鋼最為重要。其原因在于Fe-Si合金晶粒沿<100>方向的磁致伸縮系數(shù)隨Si含量增加而減小,在約6.3%時基本消失,而<111>方向的磁致伸縮系數(shù)隨Si含量增加而增加,在約6.1%時與<100>方向的磁致伸縮系數(shù)相等,使得高硅鋼在較高頻率工作時表現(xiàn)出優(yōu)異的低鐵損特性。
正常運(yùn)行的變壓器會發(fā)生持續(xù)均勻的“嗡嗡”聲,這是由于交流電流經(jīng)過變壓器繞組時,在鐵芯中間產(chǎn)生了周期性變化的交變磁通,引起鐵芯磁致伸縮而震動發(fā)出的聲音。大量或者大型的鐵芯在震動時發(fā)出的聲音不但造成了能量的損耗,還造成了噪音污染。特別是在航天器、潛艇和導(dǎo)彈等軍事航空領(lǐng)域,F(xiàn)e-Si系合金扮演著極為重要的角色。20世紀(jì)60年代末,Si含量6.5%的合金作為變壓器材料出現(xiàn)在阿波羅11號飛船上,完成人類首次登月壯舉。可見,高硅鋼是一種性能優(yōu)良的降耗、降噪的環(huán)保型軟磁材料。
相比于其他合金,高硅鋼的研究和開發(fā)過程相對比較漫長。20世紀(jì)20年代末A.Schulze首次研究發(fā)現(xiàn),硅含量6.5%的鐵硅系合金具有磁致伸縮系數(shù)幾乎為零的特性。20世紀(jì)80年代,K.I.Arail教授等發(fā)現(xiàn)高硅鋼相比于傳統(tǒng)Si含量低的合金在交流動態(tài)磁場中具有更低鐵損以及更高的磁導(dǎo)率。此后數(shù)十年間,為了克服高硅鋼的脆性,在制備技術(shù)方面出現(xiàn)了很多嘗試。如包套或控溫的特殊軋制方法、快速凝固法、化學(xué)氣相沉積法(CVD法)、等離子體化學(xué)氣相沉積法(PCVD法)、熱浸滲一擴(kuò)散退火方法、粉末冶金法、微量合金化改性等各種方法。
其中CVD是比較成功的例子。1988年日本NKK公司采用CVD技術(shù)第一次生產(chǎn)出了厚度為0.1~0.5mm,寬度為400mm的無取向6.5%Si鋼片。20世紀(jì)90年代初期,全球第一條商用能夠?qū)崿F(xiàn)連續(xù)滲硅的CVD生產(chǎn)線被研制出來,生產(chǎn)的產(chǎn)品尺寸可以達(dá)到0.1~0.3mm×600mm。
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