[發明專利]一種雙噴淋頭玻璃基板清洗裝置

在審

• 申請號: 201711367764.4
• 申請日: 2017-12-18
• 公開（公告）號: CN108097687A
• 公開（公告）日: 2018-06-01
• 發明（設計）人: 祁月紅
• 申請（專利權）人: 蘇州吉賽電子科技有限公司
• 主分類號: B08B11/00
• 分類號: B08B11/00;B08B3/02;B08B1/02
• 代理公司: 蘇州謹和知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32295
• 代理人: 仲崇明

本發明公開了一種雙噴淋頭玻璃基板清洗裝置，包括設有滑槽的滑動支持桿(1)、通過所述滑槽滑動連接于所述滑動支持桿(1)上的第一噴淋裝置(2a)和第二噴淋裝置(2b)以及設置在噴淋裝置(2)下方的滾刷(4)，第一噴淋裝置(2a)、第二噴淋裝置(2b)和滾刷(4)均朝向傳送機構(6)的傳送表面設置，第一噴淋裝置(2a)和第二噴淋裝置(2b)均包括噴頭(22)、連接在該噴頭(22)和所述滑動支持桿之間的連桿21以及所述噴頭上設置的多個噴孔(23)，第一噴淋裝置(2a)和第二噴淋裝置(2b)均可在滑動支持桿(1)的延伸方向上作來回移動，并且第一噴淋裝置(2a)或所述第二噴淋裝置(2b)的最大移動距離之和小于所述滑動支持桿(1)的長度。

技術領域

本發明涉及半導體器件制造領域，尤其涉及一種雙噴淋頭玻璃基板清洗裝置。

背景技術

玻璃基板作為各類半導體器件工藝中的主要部件，在工藝中通常需要使用清洗機對玻璃基板進行多次清洗。現有技術中，最為常見的清洗裝置通常包括在傳送機構上方的一個或多個滾刷，以及固定在傳送機構上方的多個噴淋裝置。滾刷清洗裝置工作時，噴淋裝置開啟噴淋清洗液，由傳送機構的傳送表面輸送待清洗的基板，滾刷旋轉，其刷毛接觸基板的表面，清洗液直接噴射在基板的表面上，從而滾刷對基板進行滾刷清洗。然而，現有的清洗機的清洗效率和清洗質量都有待提高。

發明內容

本發明的目的在于提供一種雙噴淋頭玻璃基板清洗裝置。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種雙噴淋頭玻璃基板清洗裝置，該裝置包括設有滑槽的滑動支持桿、通過所述滑槽滑動連接于所述滑動支持桿上的第一噴淋裝置和第二噴淋裝置以及設置在噴淋裝置下方的滾刷，所述第一噴淋裝置、第二噴淋裝置和所述滾刷均朝向傳送機構的傳送表面設置，所述第一噴淋裝置和第二噴淋裝置均包括噴頭、連接在該噴頭和所述滑動支持桿之間的連桿以及所述噴頭上設置的多個噴孔，所述第一噴淋裝置和第二噴淋裝置均可在所述滑動支持桿的延伸方向上作來回移動，并且第一噴淋裝置或所述第二噴淋裝置的最大移動距離之和小于所述滑動支持桿的長度。

可選的，所述滑動支持桿上設置有一個向下凸起的止擋部，用以對第一噴淋裝置或所述第二噴淋裝置的移動幅度進行限制。

可選的，所述止擋部位于所述滑動支持桿的中點。

可選的，所述噴頭上設置的多個噴孔的噴射方向各不相同。

可選的，所述第一噴淋裝置和第二噴淋裝置在所述滑動支持桿的延伸方向上移動的方向相反。

可選的，所述止擋部可以縮到所述滑動支持桿內，以取消對移動幅度的限制作用。

與現有技術相比，本發明的優點在于：

由于是雙噴淋裝置，并且可以都是可移動的，可以保證清洗效果的同時提高清洗效率。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1所示為本發明具體實施例中一種雙噴淋頭玻璃基板清洗裝置的結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行詳細的描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。