[發明專利]一種壓平裝置、顯示基板及其制備方法在審
| 申請號: | 201711366314.3 | 申請日: | 2017-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN108123070A | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發明(設計)人: | 胡春靜 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L51/50;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319 | 代理人: | 辛姍姍 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 壓平 亞像素 壓平裝置 顯示基板 凸起表面 凸起 制備 部件本體表面 有機發光層 表面平整 部件本體 凸起設置 顯示性能 | ||
1.一種壓平裝置,用于對顯示基板上的各亞像素進行壓平,其特征在于,所述壓平裝置包括壓平部件本體和壓平凸起,所述壓平凸起設置在所述壓平部件本體表面上,所述壓平凸起與所述亞像素接觸的凸起表面的長度不大于所述亞像素的長度,且所述凸起表面的寬度不大于所述亞像素的寬度。
2.根據權利要求1所述的壓平裝置,其特征在于,所述壓平部件本體為輥筒,所述輥筒表面設置有所述壓平凸起。
3.根據權利要求1所述的壓平裝置,其特征在于,所述壓平凸起的壓平面上設置有抗腐蝕層。
4.根據權利要求3所述的壓平裝置,其特征在于,所述抗腐蝕層至少為下列之一:
高支化低聚物層、全氟基聚乙醚層、甲基丙烯酸乙酯層。
5.根據權利要求1所述的壓平裝置,其特征在于,所述壓平凸起的材料為對所述亞像素的材料具有疏液功能的材料。
6.根據權利要求5所述的壓平裝置,其特征在于,所述壓平凸起的材料為含氟聚合物;所述壓平部件本體的材料為含氟聚合物或石英。
7.根據權利要求1-6任一項所述的壓平裝置,其特征在于,所述壓平部件本體上還設置有對位部件,所述對位部件用于實現所述壓平裝置的壓平凸起與所述各亞像素一一對位。
8.一種使用權利要求1-7任一項所述的壓平裝置制備顯示基板的方法,其特征在于,所述方法包括:
提供襯底基板;
在所述襯底基板上形成像素界定層,并在由所述像素界定層劃分的亞像素區域內形成有機發光層,得到各亞像素;
使用所述壓平裝置對未固化的所述亞像素進行壓平,以使所述亞像素表面平整。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述在所述襯底基板上形成像素界定層,并在由所述像素界定層劃分的亞像素區域內形成有機發光層,得到各亞像素包括:
通過構圖工藝在所述襯底基板上形成所述像素界定層,并通過噴墨打印的方式在由所述像素界定層劃分的亞像素區域內形成所述有機發光層,得到所述各亞像素。
10.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
在使用所述壓平裝置對未固化的所述亞像素進行壓平的同時,對所述亞像素進行預固化處理。
11.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述使用所述壓平裝置對未固化的所述亞像素進行壓平包括:
使用輥型壓平裝置在所述亞像素上進行滾動,以使所述亞像素表面被壓平。
12.根據權利要求8-11任一項所述的方法,其特征在于,所述使用所述壓平裝置對未固化的所述亞像素進行壓平包括:
根據所述壓平裝置的壓平部件本體上的對位部件,將所述壓平裝置的壓平凸起與所述各亞像素一一對位;
使用所述壓平裝置的壓平凸起對所述各亞像素進行壓平。
13.一種顯示基板,其特征在于,根據權利要求8-12任一項所述的方法制備得到。
14.一種顯示裝置,其特征在于,包括權利要求13所述的顯示基板。
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H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
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H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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H01L51-54 .. 材料選擇





