[發明專利]一種化學氣相沉積方法及系統

有效

• 申請號: 201711366147.2
• 申請日: 2017-12-18
• 公開（公告）號: CN109930131B
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務所 11313
• 代理人: 張臻賢;王珺

1.一種化學氣相沉積方法，其特征在于，包括如下步驟：

在反應室內的襯底之上沉積薄膜；以及

吹掃所述薄膜以及通過抽吸管道抽吸所述反應室內的氣體，以帶走沉積所述薄膜產生的顆粒；其中，所述抽吸管道的入口端朝向所述薄膜的高度方向，且所述入口端的底部的內邊緣低于所述襯底的基準面，所述入口端的頂部的內邊緣高于所述薄膜的頂部；

其中，所述基準面是所述襯底用于沉積薄膜的一側中靠近所述入口端的邊緣的上表面。

2.根據權利要求1所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，所述入口端的底部的內邊緣與所述基準面的距離用h₁表示，所述入口端的頂部的內邊緣與所述薄膜的頂部的距離用h₂表示，h₁和h₂符合下述關系：

h₂>h₁>0。

3.根據權利要求1所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體之前還包括以下步驟：

縮小承載面到噴淋出口的距離，小于在沉積所述薄膜時所述承載面到所述噴淋出口的距離；

其中，所述承載面是用于承載所述襯底的加熱載臺表面，所述噴淋出口用于在吹掃所述薄膜時噴出吹掃用氣體及用于在沉積所述薄膜時噴出沉積用的氣體。

4.根據權利要求3所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體步驟中，所述承載面到所述噴淋出口的距離的取值范圍為小于等于9毫米。

5.根據權利要求3所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體步驟中，所述承載面到所述噴淋出口的距離的取值范圍為大于等于6毫米小于等于9毫米。

6.根據權利要求1所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體步驟中，所述反應室內的氣體內的壓強小于沉積所述薄膜時所述反應室內的氣體內的壓強。

7.根據權利要求6所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體步驟中，所述反應室內的氣體壓強的取值范圍為小于等于300帕斯卡。

8.根據權利要求6所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體步驟中，所述反應室內的氣體壓強的取值范圍為大于等于130帕斯卡小于等于270帕斯卡。

9.根據權利要求1所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在所述反應室內的所述襯底之上沉積所述薄膜之前，還包括如下步驟：

穩定沉積薄膜工藝條件的穩定工藝；

在吹掃所述薄膜以及通過抽吸管道抽吸所述反應室內的氣體之后，還包括如下步驟：

對反應室內的工藝條件進行調整的工藝。

10.根據權利要求1至9中任一項任一所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，所述化學氣相沉積方法包括等離子體增強化學氣相沉積方法；

等離子體增強化學氣相沉積方法中吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體具體包括如下步驟：

使用載氣吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體。

11.根據權利要求10所述的化學氣相沉積方法，其特征在于，在使用載氣吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體之前，還包括如下步驟：

使用工藝等離子氣體吹掃所述薄膜以及抽吸所述反應室內的氣體。