[發(fā)明專利]一種繪制分子片段2D投影圖的方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201711365367.3
• 申請日: 2017-12-18
• 公開（公告）號: CN108010101A
• 公開（公告）日: 2018-05-08
• 發(fā)明（設計）人: 藍宇;白若鵬;李英姿;朱磊
• 申請（專利權）人: 重慶大學
• 主分類號: G06T11/00
• 分類號: G06T11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

提出了一種繪制分子片段2D投影圖的方法。立體選擇性的成因很大一部分來自空間位阻，實際上對于復雜分子，空間位阻從幾何結(jié)構(gòu)很難觀察出。本發(fā)明我們設計并使用了2D原子投影模型，通過不同顏色來表示手性誘導片斷與紙面的距離，能夠直觀獲知空間位阻產(chǎn)生的位置，使立體化學變得更加直觀。

技術領域

本發(fā)明屬于物理有機化學的技術領域，具體涉及一種繪制分子片段2D投影圖的方法。

背景技術

立體選擇性的成因主要來自空間位阻。但實際上對于復雜分子，空間位阻從幾何結(jié)構(gòu)很難直觀地觀測。對此，我們設計并使用了2D原子投影模型，通過不同顏色來表示手性誘導片斷與紙面的距離，能夠直觀獲知空間位阻產(chǎn)生的位置，使立體化學變得更加直觀。

具體實施方式

下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進一步說明：

實施例

我們在與新加坡國立大學盧一新課題組合作研究聯(lián)烯與噻唑酮γ-加成反應(如圖2)時使用2D原子投影模型，通過不同顏色來表示手性膦氨基酸片斷空間分布。從圖中可以看出，當噻唑酮底物與其反應時，噻唑在藍色NH基團氫鍵活化下與紅色CH2所示碳負離子反應，大基團位于位時位阻更小。因此，得到R構(gòu)型產(chǎn)物12R。

我們還將該2D原子投影模型應用于過渡金屬催化的一系列對映體選擇性偶聯(lián)反應中。例如，銠催化合成氫化苯并呋喃的對映體選擇性(圖3(a))、氮氮膦配位銥催化的酮不對稱氫化等(圖3(b))。

附圖說明

圖1為催化劑的2D原子投影模型圖

圖2為聯(lián)烯與噻唑酮γ-加成反應以及膦-聯(lián)烯絡合物2D原子投影模型

圖3為(a)DPPE、雙環(huán)辛二烯等銠絡合物的2D原子投影模型；(b)氮氮膦配位銥氫絡合物2D原子投影模型。

使用的方法：

本發(fā)明公開了一種繪制分子片段2D投影圖的方法，需借助matlab實現(xiàn)。該方法在立體選擇性和空間位阻等領域具有廣闊的應用前景；此外，該方法使用簡便，使立體化學變得更加直觀。