[發(fā)明專利]塑件表面氣化鍍銅設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711364443.9
• 申請(qǐng)日: 2017-12-18
• 公開（公告）號(hào): CN107841713A
• 公開（公告）日: 2018-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 袁高榮;年夫錄
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州川鵬塑料有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/20
• 分類號(hào): C23C14/20;C23C14/32
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務(wù)所32237
• 代理人: 王玉國

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種塑件表面氣化鍍銅設(shè)備。

背景技術(shù)

目前，真空電鍍一般分為濺鍍和蒸鍍，現(xiàn)行蒸鍍?cè)O(shè)備一般只能鍍鋁錫之類的低熔點(diǎn)金屬，而銅具備高的導(dǎo)通性以及特殊的金屬光澤，有很高的市場(chǎng)需求。

鍍銅的工藝難點(diǎn)：

1)、銅的種類較多，相關(guān)特性各異，需要選出一種穩(wěn)定性高，性能好的銅材料。

2)、銅的熔點(diǎn)1038℃、沸點(diǎn)2567℃，高于普通蒸鍍金屬的熔點(diǎn)及沸點(diǎn)，設(shè)備需要特制。

3)、銅的導(dǎo)電性能要高于普通蒸鍍金屬，對(duì)應(yīng)的機(jī)器需具備高的電流負(fù)載能力。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，提供一種塑件表面氣化鍍銅設(shè)備。

本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：

塑件表面氣化鍍銅設(shè)備，特點(diǎn)是：在蒸鍍機(jī)真空箱體里設(shè)有用于放置產(chǎn)品的左放置架和右放置架，左放置架與右放置架之間設(shè)有左電極棒和右電極棒，左電極棒和右電極棒上分別裝有銅棒，銅棒上均開有上孔和下孔，左銅棒的上孔與右銅棒的上孔之間連接有鎢絲，左銅棒的下孔與右銅棒的下孔之間連接有鎢絲，鎢絲上設(shè)有電鍍銅絲。

進(jìn)一步地，上述的塑件表面氣化鍍銅設(shè)備，其中，所述銅棒呈彎曲向上或向下形狀。

進(jìn)一步地，上述的塑件表面氣化鍍銅設(shè)備，其中，所述電鍍銅絲纏繞于鎢絲上。

進(jìn)一步地，上述的塑件表面氣化鍍銅設(shè)備，其中，所述真空箱體上設(shè)有氬氣口，氬氣口通過管路連接氬氣供氣系統(tǒng)。

進(jìn)一步地，上述的塑件表面氣化鍍銅設(shè)備，其中，所述管路上設(shè)有氣體調(diào)節(jié)閥。

進(jìn)一步地，上述的塑件表面氣化鍍銅設(shè)備，其中，所述左電極棒和右電極棒置于旋轉(zhuǎn)盤上。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有顯著的優(yōu)點(diǎn)和有益效果，具體體現(xiàn)在以下方面：

通過在電極棒上安裝彎曲向上和向下的銅棒，銅棒上開孔，構(gòu)成鎢絲支架，電鍍銅絲纏繞在鎢絲上，電鍍銅材料在蒸鍍時(shí)，容易蒸發(fā)，不容易掉落；設(shè)定蒸鍍機(jī)放電電流值、放電時(shí)間、真空度、鍍架轉(zhuǎn)速等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)蒸鍍機(jī)上產(chǎn)品蒸鍍銅，確保蒸鍍一爐產(chǎn)品的鍍銅穩(wěn)定性和均勻度。

附圖說明

圖1：本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了對(duì)本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)詳細(xì)說明具體實(shí)施方案。

如圖1所示，塑件表面氣化鍍銅設(shè)備，在蒸鍍機(jī)真空箱體11里設(shè)有用于放置產(chǎn)品的左放置架9和右放置架10，左放置架9與右放置架10之間設(shè)有左電極1和右電極棒2，左電極棒1和右電極棒2安裝于旋轉(zhuǎn)盤上，左電極棒1和右電極棒2上分別裝有銅棒，銅棒呈彎曲向上或向下形狀，左銅棒5上開有上孔3和下孔4，右銅棒6上開有上孔和下孔，左銅棒5的上孔3與右銅棒6的上孔之間連接有上鎢絲7，左銅棒5的下孔4與右銅棒6的下孔之間連接有下鎢絲8，上鎢絲7和下鎢絲8上設(shè)有電鍍銅絲，電鍍銅絲纏繞于鎢絲上。

另外，真空箱體11上設(shè)有氬氣口，氬氣口通過管路連接氬氣供氣系統(tǒng)，管路上設(shè)有氣體調(diào)節(jié)閥。

通過在電極棒上安裝彎曲向上和向下的銅棒，銅棒上開孔，構(gòu)成鎢絲支架，設(shè)定蒸鍍機(jī)放電電流值、放電時(shí)間、真空度、鍍架轉(zhuǎn)速參數(shù)，導(dǎo)入相適合的工藝條件，實(shí)現(xiàn)蒸鍍機(jī)上產(chǎn)品蒸鍍銅，確保蒸鍍一爐產(chǎn)品的鍍銅穩(wěn)定性和均勻度。

彎曲向上和向下的銅棒可避開銅棒長度限制，向上和向下做最大延伸，可以最大程度的使電鍍爐內(nèi)電鍍層保持均勻；電鍍銅絲纏繞在鎢絲上，電鍍銅材料在蒸鍍時(shí)，容易蒸發(fā)，不容易掉落。

鍍銅的電流值從600A，調(diào)整至1200A，鍍銅效果有明顯提升，產(chǎn)品表面顯示有黃色電鍍層。由于銅的密度要大于錫，密度不一樣，真空度也必須調(diào)整，調(diào)整到5×10^-3Torr，爐內(nèi)電鍍層上下位置的鍍層厚度，較為相同且穩(wěn)定；自轉(zhuǎn)為100轉(zhuǎn)/分鐘，整爐電鍍產(chǎn)品的均勻度比較好，且比較穩(wěn)定。

由于鍍銅比較厚，與涂料結(jié)合時(shí)，產(chǎn)品信賴性與普通的電鍍品相比，要稍弱，氬氣的加入速度調(diào)整為200cc/min，時(shí)長30s，信賴性改善較大，滿足要求。

本發(fā)明在蒸鍍機(jī)上實(shí)現(xiàn)鍍銅，并保證了均勻性和穩(wěn)定性，環(huán)保無污染。

需要說明的是：以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，并非用以限定本發(fā)明的權(quán)利范圍；同時(shí)以上的描述，對(duì)于相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的專門人士應(yīng)可明了及實(shí)施，因此其它未脫離本發(fā)明所揭示的精神下所完成的等效改變或修飾，均應(yīng)包含在申請(qǐng)專利范圍中。