[發(fā)明專利]一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711358693.1 | 申請日: | 2017-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN107999153B | 公開(公告)日: | 2021-04-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉趙淼;李夢麒;張龍祥 | 申請(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00 |
| 代理公司: | 北京思海天達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 遞減 間距 圓柱 陣列 結(jié)構(gòu) 通道 過濾 | ||
1.一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽,其特征在于:該微通道過濾槽包括主體結(jié)構(gòu)(1)、流體入口(2)、橢圓形貯液池(3)、第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(4)、第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(5)、第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(6)、第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(7)、微流控通道(8)和下底板(9);
流體入口(2)、橢圓形貯液池(3)、微流控通道(8)為主體結(jié)構(gòu)(1)上的凹槽結(jié)構(gòu);第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(4)、第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(5)、第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(6)、第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(7)均為主體結(jié)構(gòu)(1)上的孔洞結(jié)構(gòu),且各結(jié)構(gòu)為芯片工作時(shí)液體的流動區(qū)域;所述主體結(jié)構(gòu)(1)和下底板(9)通過上下鍵合固定,下底板(9)置于主體結(jié)構(gòu)(1)底部,以支撐芯片的主體結(jié)構(gòu)并提供流動空間;流體入口(2)通過微通道與橢圓形貯液池(3)連接,橢圓形貯液池(3)與微流控通道(8)連接;第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(4)、第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(5)、第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(6)、第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(7)設(shè)置在橢圓形貯液池(3)內(nèi);第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(4)、第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(5)、第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(6)和第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(7)并排布置在橢圓形貯液池(3)內(nèi);第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(4)、第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(5)、第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(6)和第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(7)之間為錯列布置;第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(4)、第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(5)、第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(6)和第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(7)的圓柱陣列尺寸逐漸由大到小漸變;流體從流體入口(2)流至橢圓形貯液池(3)并到達(dá)第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu),流體入口(2)位于橢圓形貯液池(3)中間部位,并與橢圓形貯液池(3)垂直相接;第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(4)由7個半徑150μm,高120μm的圓柱構(gòu)成,相鄰兩個圓柱間距為100μm,當(dāng)流體經(jīng)過第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)時(shí),大于100μm的固體垃圾會被停留在貯液池。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽,其特征在于:所述主體結(jié)構(gòu)(1)和下底板(9)由聚二甲基硅烷制成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽,其特征在于:流體從第一級圓柱陣列結(jié)構(gòu)流至第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(5),流體中所攜帶的固體垃圾均小于100μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽,其特征在于:第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)由10個半徑120μm,高120μm的圓柱構(gòu)成,相鄰兩個圓柱間距為80μm,大于80μm的固體垃圾會被停留在貯液池。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽,其特征在于:流體從第二級圓柱陣列結(jié)構(gòu)流至第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(6),流體中所攜帶固體垃圾均小于80μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽,其特征在于:第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)由13個半徑90μm,高120μm的圓柱構(gòu)成,相鄰兩個圓柱間距為60μm,大于60μm的固體垃圾會被停留在貯液池;流體從第三級圓柱陣列結(jié)構(gòu)流至第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)(7),所攜帶固體垃圾均小于60μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種四級遞減間距多圓柱陣列結(jié)構(gòu)微通道過濾槽,其特征在于:第四級圓柱陣列結(jié)構(gòu)由17個半徑60μm,高120μm的圓柱構(gòu)成,相鄰兩個圓柱間距為40μm,大于40μm的固體垃圾會被停留在貯液池,流體最終流至出口位置,該出口位置能夠與任意形狀的通道相連接,以達(dá)到向任意通道流入純凈流體的目的。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京工業(yè)大學(xué),未經(jīng)北京工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711358693.1/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 遞減的刀片跨度
- 確定油井產(chǎn)量遞減率的方法及裝置
- 預(yù)測產(chǎn)油量的方法、裝置及存儲介質(zhì)
- 采用初始月產(chǎn)量確定油井原油累積產(chǎn)量的方法及系統(tǒng)
- 預(yù)測原油經(jīng)濟(jì)可采儲量的方法和裝置
- 預(yù)測直線遞減生產(chǎn)井初始遞減率的方法和裝置
- 預(yù)測直線遞減生產(chǎn)井初始年產(chǎn)量的方法和裝置
- 預(yù)測原油技術(shù)可采儲量的方法和裝置
- 預(yù)測直線遞減期原油累積產(chǎn)量的方法和裝置
- 確定壓裂井產(chǎn)量遞減階段全周期內(nèi)動態(tài)產(chǎn)量方法、系統(tǒng)





