[發(fā)明專利]一種微納孔陣列的加工裝置

有效

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• 申請日: 2017-12-15
• 公開（公告）號: CN107877010B
• 公開（公告）日: 2019-02-22
• 發(fā)明（設計）人: 陳云;麥錫全;陳新;高健;汪正平;楊海東
• 申請（專利權）人: 廣東工業(yè)大學;佛山市南海區(qū)廣工大數(shù)控裝備協(xié)同創(chuàng)新研究院
• 主分類號: B23K26/382
• 分類號: B23K26/382;B23K26/08;B23K26/12;B23K26/60;B23K26/70
• 代理公司: 佛山市禾才知識產(chǎn)權代理有限公司 44379
• 代理人: 史亮亮

1.一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：包括支撐架、激光裝置、真空反應裝置、磁場裝置和操作臺；所述激光裝置安裝于所述支撐架上；所述真空反應裝置包括反應裝置、吸附機構、真空導氣管和真空泵；

所述反應裝置包括上蓋、反應盒體和底盤；所述上蓋蓋于所述反應盒體的頂部；反應盒體安裝于所述激光裝置的正下方，且其側(cè)壁通過所述真空導氣管連接真空泵；所述底盤安裝于所述反應盒體的底部，并且其表面開設有若干個同心環(huán)形凹槽，所述環(huán)形凹槽底部均勻開設有通孔；所述吸附機構包括吸附底盤和壓力調(diào)節(jié)器；所述吸附底盤安裝于所述底盤的底部，所述吸附底盤的頂部接通于所述通孔；所述壓力調(diào)節(jié)器的一端連接于所述吸附底盤側(cè)邊，另一端通過所述真空導氣管連接真空泵；

所述激光裝置、壓力調(diào)節(jié)器、真空泵分別與所述操作臺電氣連接；所述磁場裝置安裝于所述反應裝置的下方；

所述激光裝置包括直驅(qū)電機平臺、光學系統(tǒng)和激光發(fā)生器所述直驅(qū)電機平臺包括Z軸導軌、滑動支撐架和直驅(qū)電機；所述Z軸導軌豎直安裝于所述支撐架上；所述滑動支撐架滑動安裝于所述Z軸導軌上，并與所述光學系統(tǒng)連接；所述直驅(qū)電機驅(qū)動所述滑動支撐架，用以帶動所述光學系統(tǒng)沿Z軸導軌方向作上下運動；所述光學系統(tǒng)與所述激光發(fā)生器電氣連接；

所述磁場裝置包括磁場發(fā)生器、傳動裝置和旋轉(zhuǎn)電機；所述磁場發(fā)生器安裝于所述反應裝置的下方，所述旋轉(zhuǎn)電機通過所述傳動裝置帶動所述磁場發(fā)生器繞軸承作旋轉(zhuǎn)運動；所述磁場發(fā)生器產(chǎn)生的磁場梯度為2～6kG/cm。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：所述光學系統(tǒng)包括隔磁外殼、光學組件和激光出鏡罩；所述隔磁外殼安裝于滑動支撐架上；所述光學組件安裝于所述隔磁外殼的內(nèi)部；所述激光出鏡罩連接于所述隔磁外殼的底部的通口處；所述激光出鏡罩的出光口位于反應盒體的正上方。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：所述操作臺是由可視化的PLC屏幕和集成PLC控制系統(tǒng)組成的集成控制平臺；所述激光發(fā)生器包括平面激光脈沖器和激光束產(chǎn)生裝置；所述激光束產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的激光束的波長為：350～2000nm；所述激光束的能量為1～5MW/cm2；所述光學組件為全反射鏡、擴束鏡、整形鏡片和掃描振鏡。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：所述反應盒體內(nèi)的側(cè)壁設置有加熱貼片，所述加熱貼片的加熱溫度范圍為20～70℃，精度為±1℃。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：所述反應盒體內(nèi)部設置有檢測調(diào)節(jié)裝置，并通過電氣連接于所述操作臺；所述檢測調(diào)節(jié)裝置包括真空度檢測器、恒溫調(diào)節(jié)器和磁場強度檢測器；三者沿軸中心對稱安裝于所述反應盒體的內(nèi)壁上，并且相互間隔分布。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：所述上蓋的中部為玻璃透明材料，其外圍設置有第一密封墊；所述底盤與所述吸附底盤之間設置有第二密封墊。

7.根據(jù)權利要求1所述的一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：所述磁場發(fā)生器包括磁芯、支撐軸承、磁場線圈和電壓電流輸出器；所述磁芯的底部通過所述支撐軸承安裝于所述支撐架上，并位于所述反應裝置的下方；所述支撐軸承連接于所述傳動裝置：所述磁場線圈均勻纏繞在所述磁芯外側(cè)，并與所述電壓電流輸出器電氣連接。

8.根據(jù)權利要求1所述的一種微納孔陣列的加工裝置，其特征在于：所述加工裝置用于加工玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)的板型材料的工件。