[發明專利]掩模板、蒸鍍設備和裝置

有效

• 申請號: 201711352634.3
• 申請日: 2017-12-15
• 公開（公告）號: CN108004503B
• 公開（公告）日: 2021-01-19
• 發明（設計）人: 謝飛;靳福江
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

一種掩模板、蒸鍍設備和裝置。該掩模板包括相互交叉設置的至少一個第一掩模條和至少一個第二掩模條，掩模板構造為用于形成一裝置的構件且包括用于形成構件的掩模圖案，在第一掩模條和在第二掩模條的交叉區域，第一掩模條和第二掩模條共同構成該掩模圖案的一部分。該掩模板可以降低掩模條的張網難度，提升掩模板的精度，從而提高利用該掩模板制造的裝置的良率。

技術領域

本公開至少一個實施例涉及一種掩模板、蒸鍍設備和裝置。

背景技術

隨著電子顯示產品的普及，用戶對電子顯示產品的功能、外觀的要求進一步提高。例如，對于精細掩模板來說，如果用該掩模板形成的電子顯示產品的結構層具有特殊的形狀(例如弧形等)，則用于形成該構件的掩模條可能需要在原有形狀的基礎上進行相應的形變設計，如果形變過大，會極大增加掩模條的張網難度，使得掩模條張網時因變形而伸展不均勻，導致掩模板精度不良，影響利用該掩模板制造的電子顯示產品的良率。

發明內容

本公開至少一個實施例提供一種掩模板，包括：相互交叉設置的至少一個第一掩模條和至少一個第二掩模條；所述掩模板構造為用于形成一裝置的構件且包括用于形成所述構件的掩模圖案，在所述第一掩模條和在所述第二掩模條的交叉區域，所述第一掩模條和所述第二掩模條共同構成所述掩模圖案的一部分。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，在利用所述掩模板形成所述構件時，所述第一掩模條和所述第二掩模條的交叉區域在所述裝置的待形成的所述構件所在面上的正投影對應于所述構件的邊角區域。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述第一掩模條沿與所述掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸，所述第二掩模條沿與所述第一平面平行的第二方向延伸；以及所述第一掩模條包括至少兩個第一側邊，所述第二掩模條包括至少兩個對應的第二側邊，在所述第一掩模條和所述第二掩模條的交叉區域，所述第一掩模條的至少兩個第一側邊中任一個在所述第一平面上的正投影和所述第二掩模條的對應的所述第二側邊在所述第一平面上的正投影構成平滑相連的線段。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，在所述第一方向上，所述第一掩模條包括彼此交替設置的至少一個第一部分和至少一個第二部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第一方向的方向上，所述第二部分的寬度大于所述第一部分的寬度，所述第二部分的與所述第一部分連接的邊為所述第一側邊；以及在所述第二方向上，所述第二掩模條包括彼此交替設置的至少一個第三部分和至少一個第四部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第二方向的方向上，所述第四部分的寬度大于所述第三部分的寬度，所述第四部分的與所述第三部分連接的邊為所述第二側邊。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述第一側邊中任一個在所述第一平面上的正投影與對應的所述第二側邊在所述第一平面上的正投影至少部分重疊。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述第一掩模條為遮擋掩模條，所述第二掩模條為支撐掩模條，所述第二掩模條配置為支撐所述第一掩模條。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述線段的形狀為圓弧形。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述第一方向與所述第二方向垂直，并且所述第一側邊的弧度為π/6～π/4，所述第二側邊的弧度為π/4～π/3。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述線段的弧度為π/2，并且所述線段的一個端點的切線與所述第一方向平行，所述線段的另一個端點的切線與所述第二方向平行。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述線段為直線段。

例如，在本公開至少一個實施例提供的掩模板中，所述第一方向和所述第二方向垂直，并且所述第一側邊在所述第一平面上的正投影的長度為所述線段的長度的1/3～1/2，所述第二側邊在所述第一平面上的正投影的長度為所述線段的長度的1/2～2/3。