[發明專利]一種石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料的制備方法有效
| 申請號: | 201711351634.1 | 申請日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN108047406B | 公開(公告)日: | 2019-06-07 |
| 發明(設計)人: | 李寶銘;百夢弟;施明偉 | 申請(專利權)人: | 福州大學 |
| 主分類號: | C08G12/40 | 分類號: | C08G12/40;C08G12/26;C08K9/04;C08K3/04;G02F1/361 |
| 代理公司: | 福州元創專利商標代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡學俊;林文弘 |
| 地址: | 350002 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 石墨 吡咯 甲烯三階 非線性 光學 復合材料 制備 方法 | ||
1.一種石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)將二氯乙酰氯改性石墨烯和3-酰基吡咯加入到二氯甲烷中,超聲分散,同時滴加濃鹽酸,調控混合體系的pH值;所述二氯乙酰氯改性石墨烯的制備方法為:將200 mg氧化石墨烯和30 mL N, N-二甲基甲酰胺加入三口燒瓶,超聲0.5 h;反應體系降至0 ℃,滴加10 mL二氯乙酰氯;常溫下攪拌24 h,產物用乙醇洗滌至無殘余二氯乙酰氯;
(2)在N2保護下,將4-烷氧基苯甲醛加入到步驟(1)制備的混合體系中,超聲反應后,分離、浸泡、洗滌和干燥,得到石墨烯/聚吡咯甲烷復合材料;
(3)利用四氯苯醌對步驟(2)制備的石墨烯/聚吡咯甲烷復合材料進行醌化處理,分離、洗滌和干燥后,得到石墨烯/聚吡咯甲烯復合材料,即為所述石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料。
2.根據權利要求1所述的石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料的制備方法,其特征在于:具體步驟如下:
(1)稱取0.05 g二氯乙酰氯改性石墨烯和0.5~1.0 g 3-酰基吡咯分散在100 mL二氯甲烷中,超聲分散30~60 min,同時滴加濃鹽酸,調控混合體系的pH值為1~2;
(2)在N2保護下,將1.0~2.5 g 4-烷氧基苯甲醛加入到步驟(1)制備的混合體系中,10~30 ℃超聲反應4~8 h;將二氯甲烷蒸干,得到黑色沉淀;用2 mol/L的氨水浸泡12 h;用去離子水淋洗濾餅至淋洗液為中性,再用乙醇淋洗濾餅至淋洗液為無色,80 ℃真空干燥24 h,得到石墨烯/聚吡咯甲烷復合材料;
(3)稱取0.2 g石墨烯/聚吡咯甲烷復合材料分散在30 mL甲苯中,加入0.1~0.3 g四氯苯醌,攪拌反應4~8 h;蒸出甲苯,剩余物用二甲亞砜淋洗至濾液無色,80 ℃真空干燥24 h,得到石墨烯/聚吡咯甲烯復合材料,即為所述石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料。
3.根據權利要求1或2所述的石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料的制備方法,其特征在于:所述3-酰基吡咯為3-乙酰基吡咯、3-丙酰基吡咯、3-丁酰基吡咯、3-己酰基吡咯、3-庚酰基吡咯和3-辛酰基吡咯中的任一種。
4.根據權利要求1或2所述的石墨烯/聚吡咯甲烯三階非線性光學復合材料的制備方法,其特征在于:所述4-烷氧基苯甲醛為4-甲氧基苯甲醛、4-乙氧基苯甲醛、4-丙氧基苯甲醛、4-丁氧基苯甲醛、4-辛氧基苯甲醛、4-癸氧基苯甲醛和4-十四烷氧基苯甲醛中的任一種。
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