[發(fā)明專利]X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng)及X射線成像系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711349622.5 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109924992A | 公開(公告)日: | 2019-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉海亮;周敏;李冶夫;王森 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號(hào): | A61B6/00 | 分類號(hào): | A61B6/00 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 侯穎媖;錢慰民 |
| 地址: | 美國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 冷卻系統(tǒng) 冷卻管路 循環(huán)回路 冷卻液 制冷機(jī) 探測(cè)器 傳輸管路 溫度要求 循環(huán)流動(dòng) 支撐裝置 冷卻 配置 應(yīng)用 | ||
1.一種X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),其包括:
一設(shè)置在一X射線探測(cè)器上的冷卻管路;
一冷卻液傳輸管路,其至少部分地設(shè)置在所述X射線探測(cè)器的支撐裝置內(nèi),并與所述冷卻管路連接形成一循環(huán)回路,所述循環(huán)回路中有循環(huán)流動(dòng)的冷卻液。
2.如權(quán)利要求1所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),還包括一用于驅(qū)動(dòng)所述冷卻液循環(huán)流動(dòng)的泵,以及一設(shè)置在所述循環(huán)回路中的冷卻液補(bǔ)給裝置。
3.如權(quán)利要求1所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),所述支撐裝置包括一C形臂,所述冷卻液傳輸管路的第一部分嵌入所述C形臂內(nèi)。
4.如權(quán)利要求3所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),所述C形臂的至少一表面設(shè)置有一凹槽,所述冷卻液傳輸管路的第一部分嵌入在所述凹槽內(nèi),所述凹槽與所述冷卻液傳輸管路的第一部分的間隙內(nèi)填充有高導(dǎo)熱率材料。
5.如權(quán)利要求3所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),還包括一設(shè)置在所述循環(huán)回路中的冷卻液補(bǔ)給裝置,所述冷卻液補(bǔ)給裝置包括第一腔室和第二腔室,所述第一腔室連接所述冷卻液傳輸管路,所述第二腔室經(jīng)一連接管與所述第一腔室連通,當(dāng)所述冷卻液補(bǔ)給裝置被傾斜特定角度時(shí),所述第一腔室充滿冷卻液,所述第二腔室的所述冷卻液的液面高度高于所述連接管的位置。
6.如權(quán)利要求5所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),所述特定角度不大于所述C形臂的最大旋轉(zhuǎn)角度。
7.如權(quán)利要求1所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),所述支撐裝置包括一支撐底座,所述冷卻液傳輸管路的第二部分安裝在所述支撐底座內(nèi)。
8.如權(quán)利要求7所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),還包括安裝在所述支撐底座內(nèi)壁上的散熱管路,其串聯(lián)在所述冷卻液傳輸管路的第二部分中。
9.如權(quán)利要求8所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),所述散熱管路包括多個(gè)換熱器,所述多個(gè)換熱器呈矩陣式排列。
10.如權(quán)利要求8所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng),所述散熱管路包括一曲形管。
11.一種X射線成像系統(tǒng),其包括一X射線探測(cè)器,一支撐X射線探測(cè)器的支撐裝置,以及權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的X射線探測(cè)器的冷卻系統(tǒng)。
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