[發(fā)明專利]指紋模塊、指紋識別和觸控感應(yīng)組件與終端設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711346895.4 | 申請日: | 2017-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN109934049A | 公開(公告)日: | 2019-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 周文泣 | 申請(專利權(quán))人: | 南昌歐菲光科技有限公司 |
| 主分類號: | G06K9/00 | 分類號: | G06K9/00;G06F3/041;G06F3/044 |
| 代理公司: | 北京友聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11343 | 代理人: | 尚志峰;汪海屏 |
| 地址: | 330013 江西省南昌*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)射電極 感應(yīng)電極 指紋模塊 終端設(shè)備 基板 指紋識別 觸控感應(yīng)組件 偏光片 貼合 光學(xué)特征 可視區(qū)域 視覺效果 增強基板 透光性 透過率 屏幕 | ||
本發(fā)明提出了一種指紋模塊、一種指紋識別和觸控感應(yīng)組件與一種終端設(shè)備,其中,指紋模塊用于終端設(shè)備,指紋模塊包括:基板;感應(yīng)電極,感應(yīng)電極的一面與基板的一面貼合;發(fā)射電極,發(fā)射電極的一面與基板的另一面貼合;偏光片,設(shè)置在感應(yīng)電極和發(fā)射電極至少之一的表面。本發(fā)明提出的指紋模塊,通過在感應(yīng)電極和發(fā)射電極中至少一個表面的設(shè)置偏光片,調(diào)節(jié)基板、感應(yīng)電極和發(fā)射電極的光學(xué)特征,增強基板、感應(yīng)電極和發(fā)射電極整體的透光性,提升光線的透過率,避免了將指紋模塊設(shè)置在終端設(shè)備的可視區(qū)域而影響終端設(shè)備的視覺效果,進而為實現(xiàn)屏幕下指紋識別提供了基礎(chǔ)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及指紋識別技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種指紋模塊、一種指紋識別和觸控感應(yīng)組件與一種終端設(shè)備。
背景技術(shù)
目前,現(xiàn)有的終端設(shè)備(如可穿戴設(shè)備、手機、平板電腦)的指紋識別模塊都是做在終端的可視區(qū)域之外,通常設(shè)置于HOME鍵下方或手機背面,然而,隨著高屏占比日漸成為主流,HOME鍵逐漸會取消,而指紋識別在背面的實際體驗不如設(shè)置在手機前面,所以將指紋模塊集成到顯示區(qū)域?qū)蔀橹髁鳎牵讣y模塊由于保證指紋識別的準確性,指紋模塊上的線路較密集,光線透過率交差,如果直接安裝在屏幕下方實現(xiàn)屏幕下指紋識別將影響屏幕的視覺效果,甚至造成終端設(shè)備無法正常使用。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。
為此,根據(jù)本發(fā)明的第一方面實施例,本發(fā)明提供了一種透光性高的指紋模塊。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面實施例,本發(fā)明提供了一種指紋識別和觸控感應(yīng)組件。
根據(jù)本發(fā)明的第三方面實施例,本發(fā)明提供了一種終端設(shè)備。
有鑒于此,根據(jù)本發(fā)明的第一方面實施例,本發(fā)明提出了一種指紋模塊,用于終端設(shè)備,包括:基板;感應(yīng)電極,感應(yīng)電極的一面與基板的一面貼合;發(fā)射電極,發(fā)射電極的一面與基板的另一面貼合;偏光片,設(shè)置在感應(yīng)電極和發(fā)射電極至少之一的表面。
本發(fā)明提出的指紋模塊,通過在基板兩面設(shè)置感應(yīng)電極和發(fā)射電極,進而在人體手指觸摸指紋模塊時,與感應(yīng)電極形成耦合電容,使得感應(yīng)電極和發(fā)射電極的部分電容發(fā)生變化,從而根據(jù)感應(yīng)電極與發(fā)射電極的電容值的變化實現(xiàn)指紋識別,并且,通過在感應(yīng)電極和發(fā)射電極中至少一個表面的設(shè)置偏光片,調(diào)節(jié)基板、感應(yīng)電極和發(fā)射電極的光學(xué)特征,增強基板、感應(yīng)電極和發(fā)射電極整體的透光性,提升了光線的透過率,避免了將指紋模塊設(shè)置在終端設(shè)備的可視區(qū)域而影響終端設(shè)備的視覺效果,進而為實現(xiàn)屏幕下指紋識別提供了基礎(chǔ)。
另外,本發(fā)明提供的上述實施例中的指紋模塊還可以具有如下附加技術(shù)特征:
在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,偏光片為AR膜。
在該技術(shù)方案中,通過AR膜的抗反射光的特性,降低指紋模塊的反光,增加指紋模塊整體的透光性。
在上述任一技術(shù)方案中,優(yōu)選地,AR膜為多層復(fù)合結(jié)構(gòu)。
在該技術(shù)方案中,通過多層復(fù)合結(jié)構(gòu)的AR膜,使光線經(jīng)過多次折射后抵消光線的反射效果,并且,多層復(fù)合結(jié)構(gòu)的AR膜抗反射效果佳,保證了指紋木塊的透光性。
在上述任一技術(shù)方案中,優(yōu)選地,感應(yīng)電極和發(fā)射電極的表面均設(shè)置有AR膜。
在該技術(shù)方案中,通過在感應(yīng)電極和發(fā)射電極的表面均設(shè)置AR膜,使得無論由外界照射在指紋模塊上的光,還是由終端設(shè)備屏幕內(nèi)照射在指紋模塊上的光,均具有極佳的透過率,進而提升了終端設(shè)備可視區(qū)域的視覺效果。
在上述任一技術(shù)方案中,優(yōu)選地,AR膜的厚度的取值范圍為大于等于25微米,且小于等于100微米。
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