[發明專利]一種等離子體輔助氣流磨裝置

有效

• 申請號: 201711346550.9
• 申請日: 2017-12-15
• 公開（公告）號: CN108212434B
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發明（設計）人: 魯忠臣;林城;麥家健;韋瑋;喬賀陽;譚歡恒
• 申請（專利權）人: 華南理工大學
• 主分類號: B02C19/06
• 分類號: B02C19/06;B02C19/18
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 黃磊

一種等離子體輔助氣流磨裝置，包括氣流磨主體、電極軸，氣流磨主體上設有入料通道、分級區，氣流磨主體內設有粉碎室，入料通道、分級區和粉碎室均相連通，氣流磨主體上還開設有高速氣體通道，高速氣體通道和粉碎室相連通，電極軸通過陶瓷蓋安裝在氣流磨主體內的底部；電極軸接電源的正極，氣流磨主體的外殼接電源的負極并接地。本發明具有能提高粉末細化效率、增強粉體活性、提高粉末的后續合成效率等優點。本發明屬于氣流磨技術領域。

技術領域

本發明屬于氣流磨技術領域，具體涉及一種等離子體輔助扁平式氣流磨裝置。

背景技術

扁平式氣流磨是氣流磨的一種。由于扁平式氣流磨的粉碎室結構簡單，容易制造，所以扁平式氣流磨應用廣泛。扁平式氣流磨通過噴嘴把壓縮空氣或過熱蒸汽變為高速氣流，當物料通過加料器送入粉碎室時受到高速氣流的剪切作用，強烈的沖擊和劇烈的摩擦使物料粉碎成超細產品。主要特點是：適于干性、脆性物料的超細粉碎，很容易獲得數微米的料子；由于主要靠粉體間自磨粉碎，產品不易污染，純度高；沒有運轉部件，除內襯正常磨損外，其他零部件一般不會損壞；密閉無粉塵飛揚，環保；噪聲低，無振動；拆洗方便；能實現大處理量連續生產，自動化程度高；可以根據不同性質的物料，選擇相應的內襯材料(主要在粉碎室四周及進、出料管部分)，從而解決硬物料(莫氏硬度不大于9)和粘壁性物料在粉碎中所帶來的問題。但是，目前的扁平式氣流磨的粉末細化效率還不夠高。

發明內容

針對上述問題，本發明提供一種能提高粉末細化效率的等離子體輔助氣流磨裝置，它還具有增強粉體活性、提高粉末的后續合成效率等優點。

一種等離子體輔助氣流磨裝置，包括氣流磨主體、電極軸，氣流磨主體上設有入料通道、分級區，氣流磨主體內設有粉碎室，入料通道、分級區和粉碎室均相連通，氣流磨主體上還開設有高速氣體通道，高速氣體通道和粉碎室相連通，電極軸通過陶瓷蓋安裝在氣流磨主體內的底部；電極軸接電源的正極，氣流磨主體的外殼接電源的負極并接地。

所述電極軸外套一層絕緣層，絕緣層的材料為聚四氟乙烯。

所述入料通道包括通道主體、入料斗、入料噴嘴，通道主體安裝于氣流磨主體的上部，入料噴嘴安裝在通道主體的上端部，入料斗安裝在通道主體上且位于入料噴嘴的下游。采用此結構，因此方便添加物料進入粉碎室，且能通過入料噴嘴的噴、吹將物料噴入粉碎室內，入料效率高。

所述氣流磨主體包括氣流磨箱體、上端蓋、下端蓋，氣流磨箱體的中部為貫穿的圓柱形通孔，下端蓋安裝在圓柱形通孔的下方，上端蓋安裝在圓柱形通孔的上方，圓柱形通孔被上、下端蓋蓋合后形成粉碎室，分級區安裝在上端蓋上。

下端蓋的中部開設有圓形通孔，陶瓷蓋呈圓形，陶瓷蓋安裝在下端蓋的圓形通孔處，電極軸一端通過密封圈安裝在陶瓷蓋上，電極軸另一端穿過粉碎室伸入分級區。

高速氣體通道包括氣流噴嘴及設置在氣流磨箱體上圓柱形通孔外側的環形通道，氣流噴嘴安裝在氣流磨箱體的外側壁上，氣流噴嘴和環形通道相連通，圓柱形通孔的內側壁上開設有小孔，環形通道和粉碎室通過小孔相連通。

所述氣流噴嘴的數量為六個，氣流噴嘴均勻分布在氣流磨箱體的外側。

小孔和氣流噴嘴的數量相同，小孔和氣流噴嘴的位置相對應。

粉碎室中充入的氣體為氬氣、氮氣、氧氣、氨氣、氫氣的一種，氣體壓力是0.1MPa至1MPa。