[發明專利]光學系統、光學裝置和圖像拾取裝置

有效

• 申請號: 201711343365.4
• 申請日: 2017-12-15
• 公開（公告）號: CN108227159B
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 小林加奈
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G02B13/18
• 分類號: G02B13/18
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 楊小明

1.一種光學系統，其特征在于包括在聚焦期間沿著不同軌跡移動的第一聚焦單元和第二聚焦單元，所述光學系統包括第一布置狀態和第二布置狀態，

其中，在第一布置狀態下，第一聚焦單元和第二聚焦單元被布置成在保持預先確定的物距處的焦點對準狀態的同時產生所述光學系統的第一像差，并且在第二布置狀態下，第一聚焦單元和第二聚焦單元被布置成在保持所述預先確定的物距處的焦點對準狀態的同時產生所述光學系統的不同于第一像差的第二像差，

其中僅通過移動第一聚焦單元和第二聚焦單元來將第一布置狀態變為第二布置狀態，

其中，滿足以下條件表達式：

其中，S1被定義為S1＝(1-βi1²)×βi1r²，S2被定義為S2＝(1-βi2²)×βi2r²，并且其中βi1是第一聚焦單元在第一布置狀態下的橫向倍率，βi2是第二聚焦單元在第一布置狀態下的橫向倍率，βi1r是在第一布置狀態下被布置為比第一聚焦單元更靠近像側的透鏡單元的合成橫向倍率，以及βi2r是在第一布置狀態下被布置為比第二聚焦單元更靠近像側的透鏡單元的合成橫向倍率，

其中，X1是第一聚焦單元在從第一布置狀態變為第二布置狀態時的移動量，以及X2是第二聚焦單元在從第一布置狀態變為第二布置狀態時的移動量。

2.根據權利要求1所述的光學系統，其中，第一布置狀態和第二布置狀態是所述光學系統在無限遠物體上焦點對準的布置狀態。

3.根據權利要求1所述的光學系統，其中，滿足以下條件表達式：

0.99Li/Lj1.01，

其中，Li是所述光學系統在第一布置狀態下的總長，以及Lj是所述光學系統在第二布置狀態下的總長。

4.根據權利要求1所述的光學系統，其中，滿足以下條件表達式：

0.9(βi1×βi2)/(βj1×βj2)1.1，

其中，βi1是第一聚焦單元在第一布置狀態下的橫向倍率，βi2是第二聚焦單元在第一布置狀態下的橫向倍率，βj1是第一聚焦單元在第二布置狀態下的橫向倍率，以及βj2是第二聚焦單元在第二布置狀態下的橫向倍率。

5.根據權利要求1所述的光學系統，所述光學系統還包括第三布置狀態，其中，在第三布置狀態下，第一聚焦單元和第二聚焦單元被布置為使得滿足以下條件表達式：

I0，

其中，I是聚焦于無限遠物體上時的三階像差系數。

6.根據權利要求1所述的光學系統，其中，滿足以下條件表達式：

β-0.1，

其中，β是當聚焦于最近的物體上時的像倍率。

7.根據權利要求1所述的光學系統，其中，滿足以下條件表達式：

0.4|f1/f2|2.5，

其中，f1是第一聚焦單元的焦距，以及f2是第二聚焦單元的焦距。