[發明專利]一種形成于金屬部件表面的阻尼涂層及其制備方法

在審

• 申請號: 201711342671.6
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN108085643A
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發明（設計）人: 杜廣煜;巴德純;李國浩
• 申請（專利權）人: 東北大學
• 主分類號: C23C14/08
• 分類號: C23C14/08;C23C14/30
• 代理公司: 北京易捷勝知識產權代理事務所(普通合伙) 11613
• 代理人: 韓國勝

1.一種形成于金屬部件表面的阻尼涂層，其特征在于，所述阻尼涂層的材料包括均勻混合的氧化釔穩定氧化鋯和氧化釔，其中所述氧化釔穩定氧化鋯的質量百分含量為85％-92％，所述氧化釔的質量百分含量為8％-15％；

所述均勻混合的氧化釔穩定氧化鋯和氧化釔沉積形成于金屬部件表面。

2.根據權利要求1所述的一種形成于金屬部件表面的阻尼涂層，其特征在于，所述氧化釔穩定氧化鋯的氧化釔質量分數為8％。

3.根據權利要求1-2所述的一種形成于金屬部件表面的阻尼涂層，其特征在于，所述金屬部件表面上的阻尼涂層厚度為15-30μm。

4.一種金屬部件表面阻尼涂層的制備方法，其特征在于，所述阻尼涂層制備包括以下步驟：

1)阻尼材料配制：將所述氧化釔穩定氧化鋯和所述氧化釔混合均勻；所述氧化釔穩定氧化鋯的質量百分含量為85％-92％，所述氧化釔的質量百分含量為8％-15％；

2)阻尼涂層：采用物理氣相沉積的方法在金屬部件表面上進行阻尼涂層。

5.根據權利要求4所述的一種金屬部件表面阻尼涂層的制備方法，其特征在于，步驟2)中所述阻尼涂層在電子束蒸發裝置中進行。

6.根據權利要求5所述的一種金屬部件表面阻尼涂層的制備方法，其特征在于，電子束蒸發裝置的本底真空度不大于1×10-4Pa；所述機械葉片的基底加熱溫度500℃；蒸發束電流200-500mA；沉積時間為15-30min。

7.根據權利要求4所述的一種金屬部件表面阻尼涂層的制備方法，其特征在于，在步驟2)之前，還包括對金屬部件表面極凈凈化處理作業：將所述金屬部件表面分別經溶劑超聲波清洗、氣體沖洗和常壓等離子清洗作業。

8.根據權利要求7所述的一種金屬部件表面阻尼涂層的制備方法，其特征在于，所述溶劑超聲波清洗的溶劑分別為去離子水、丙酮和無水乙醇；

所述溶劑超聲波清洗的超聲波頻率為55-65kHz，每種溶劑清洗時間為20min。

9.根據權利要求7所述的一種金屬部件表面阻尼涂層的制備方法，其特征在于，所述氣體清洗具體為先用高壓空氣吹干經所述溶劑超聲波清洗處理后的所述金屬部件表面的殘留液體，然后采用高純氮氣對所述金屬部件表面進行沖洗。

10.根據權利要求7所述的一種金屬部件表面阻尼涂層的制備方法，其特征在于，所述常壓等離子清洗作業在等離子清洗機中進行，將所述等離子清洗機的清洗功率調至20-30W，所述等離子清洗機的電極距所述金屬部件表面的處理距離為2-10mm，清洗時間為15min。