[發明專利]手機蓋板顏色膜臥式鍍膜生產線

在審

• 申請號: 201711342329.6
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN109957771A
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發明（設計）人: 黃樂;祝海生;陳立;凌云;黃夏;孫桂紅;黃國興
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 張超宇;馮子玲

本發明公開了手機蓋板顏色膜臥式鍍膜生產線，包括依次連接的進口加熱室、清潔室、第一高真空緩沖室、第一濺射過渡室、濺射室、第二濺射過渡室、第二高真空緩沖室和出口室，所述濺射室包括至少一個鍍膜分區，每個鍍膜分區設有至少一旋轉陰極裝置和/或平面陰極裝置，所述旋轉陰極裝置和/或平面陰極裝置與一角度調節裝置連接，所述角度調節裝置通過若干沿著縱向軸線伸展的連接臂與鍍膜分區的陽極箱體連接。與現有技術相比，本發明提供的手機蓋板顏色膜臥式鍍膜生產線通過調節陰極裝置的濺射角度，從而增加靶材刻蝕區域，提高靶材利用率，以克服現有技術中陰極裝置的轟擊軌道固定這一缺陷。

技術領域

本發明涉及手機蓋板顏色膜臥式鍍膜生產線，屬于真空鍍膜技術領域。

背景技術

隨著現代科技的迅猛發展，觸摸屏已經是許多電子顯示產品的首選。電容式觸摸屏則成為了全球主流的觸摸屏技術，電容式觸摸屏最外層的蓋板玻璃是觸摸屏的關鍵材料之一。蓋板玻璃產品主要為超薄玻璃，在制作過程中需要經過開料、CNC、拋光、鋼化、超聲波清洗、真空鍍膜、絲印等一系列特殊加工工藝制作而成。由于這種玻璃要具備高強度、高硬度和高光潔度等特點，具有耐壓、耐摔、耐劃傷和抗沖擊等性能，可廣泛適用于手機、電腦、數碼和光學鏡頭等行業領域。鍍膜工藝是電容式觸摸屏制作工藝的關鍵環節，直接決定著后續工藝的順利進行和觸摸屏的最終使用性能，因此，鍍膜技術是決定電容式觸摸屏質量的關鍵因素。

真空鍍膜技術初現于20世紀30年代，四五十年代開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。真空鍍膜技術是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾燈許多優于固體材料本身的優越性能，達到提高產品質量、延長產品壽命、節約能源和獲得顯著技術經濟效益的作用。需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。電子束蒸發是目前真空鍍膜光學技術中一種成熟且主要的鍍膜方法，也是中國大多數光學材料鍍膜的主要工藝，它解決了電阻加熱方式中膜料與蒸鍍源材料直接接觸容易互混的問題。電子束是一種高速的電子流，可以蒸發高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快，制成的薄膜純度高、質量好，厚度可以較準確地控制，可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。但由于電子束蒸發的特點是不會或很少覆蓋在目標三維結構的兩側，通常只會沉積在目標表面，故現在已逐漸采用磁控濺射鍍膜。據了解，濺射鍍膜已成為真空鍍膜中最主要的方法，該技術是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子沉積在基片上。目前，磁控濺射光學鍍膜在國內還是個比較新的詞匯。最早的磁控濺射光學鍍膜機出現在上個世紀末的北美(美國和加拿大)，鍍制出來的光學膜就是AR膜(減反光膜)。隨著技術的進步，幾十層的光學膜系被磁控濺射鍍膜機鍍制出來。目前我國大多數企業的光學薄膜制備仍然以電子束蒸發為主，但也開始逐漸采用濺射技術，包括離子束濺射和磁控濺射。