[發明專利]弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線

在審

• 申請號: 201711342043.8
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN109957769A
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發明（設計）人: 黃樂;祝海生;陳立;凌云;黃夏;黃國興
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 熊嫻;馮子玲

1.弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：包括依次連接的上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口傳送腔室、出口緩沖腔室、出口腔室、質檢腔室和卸片區，所述上片區、進口腔室、進口緩沖腔室、進口傳送腔室、濺射腔室、出口傳送腔室、出口緩沖腔室、出口腔室和卸片區內均設有依次連接的傳動臺，所述質檢腔室內設有鍍膜質檢臺和質檢系統，所述出口腔室內傳動臺與鍍膜質檢臺相連，所述濺射腔室包括至少一個鍍膜分區，每個鍍膜分區設有至少一平面陰極裝置(61)，所述平面陰極裝置(61)與一角度調節裝置(62)連接，所述角度調節裝置(62)通過若干沿著縱向軸線伸展的連接臂與鍍膜分區的陽極箱體連接。

2.根據權利要求1所述的弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：所述鍍膜質檢臺包括至少一真空鍍膜基片架(11)、一軌道和傳動機構(13)，每個所述真空鍍膜基片架(11)均在其對應軌道上往返滑動，所述傳動機構(13)與真空鍍膜基片架(11)連接并為其提供動力，所述真空鍍膜基片架(11)上安裝有若干基片孔(12)，真空鍍膜基片安裝于基片孔(12)內。

3.根據權利要求2所述的弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：所述鍍膜質檢臺包括兩個真空鍍膜基片架(11)和兩條軌道和傳動機構(13)，所述兩條軌道貼合且并行安裝，每個所述真空鍍膜基片架(11)均在其對應軌道上往返滑動。

4.根據權利要求3所述的弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：所述傳動機構(13)包括永磁傳動電機、磁導向件和磁傳動件，所述永磁傳動電機與磁導向件和磁傳動件磁性連接，所述磁傳動件安裝于真空鍍膜基片架(11)底部，所述磁導向件安裝于軌道內部。

5.根據權利要求1所述的弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：所述連接臂包括至少一個子連接臂，每個所述子連接臂的連接端設有軸孔或轉軸，所述子連接臂與角度調節裝置(62)軸孔或轉軸連接，所述子連接臂之間相互通過軸孔或轉軸連接。

6.根據權利要求1所述的弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：所述角度調節裝置(62)為二軸調節裝置，該二軸調節裝置可以繞其豎直軸和水平軸旋轉以調整平面陰極裝置(61)的濺射角度，即當所述角度調節裝置(62)豎直地立于地面時，所述豎直軸垂直于地面，所述水平軸平行于地面。

7.根據權利要求6所述的弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：所述角度調節裝置(62)包括豎直驅動件(621)、豎直支架(622)和水平驅動件(623)，所述豎直支架(622)與豎直驅動件(621)相連并能在豎直驅動件(621)的帶動下繞豎直軸旋轉；所述水平驅動件(623)固定設置于豎直支架(622)遠離豎直驅動件(621)的末端，所述平面陰極裝置(61)與水平驅動件(623)相連并在水平驅動件(623)的帶動下繞水平軸旋轉。

8.根據權利要求1所述的弧形玻璃真空磁控濺射鍍膜生產線，其特征在于：所述平面陰極裝置(61)由外至內依次為靶材(611)、靶背板(612)、磁鐵(613)和軛鐵(614)，所述靶背板(612)與磁鐵(613)間設有絕緣墊(615)，所述靶材(611)固定連接靶背板(612)，所述磁鐵(613)固定于軛鐵(614)上，所述軛鐵(614)通過絕緣件(616)與角度調節裝置(63)連接。