[發(fā)明專利]離子源及質(zhì)譜儀在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711340348.5 | 申請(qǐng)日： | 2017-12-14 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN107895684A | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-04-10 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 喻佳俊;朱星高;劉平;曾真;代新;陳穎 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 廣州禾信康源醫(yī)療科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J49/16 | 分類號(hào)： | H01J49/16 |
| 代理公司： | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司44224 | 代理人： | 周修文 |
| 地址： | 510535 廣東省廣州市黃*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 離子源 質(zhì)譜儀 | ||
1.一種離子源，其特征在于，包括：
引出極板、第一絕緣件、第一接地板，所述引出極板通過(guò)所述第一絕緣件與所述第一接地板相連，所述引出極板設(shè)有引出孔，所述第一接地板設(shè)有與所述引出孔相應(yīng)的第一通孔；
第一套筒、離子聚焦模塊，所述第一套筒一端與所述第一接地板相連，所述第一套筒另一端與所述離子聚焦模塊相連，所述第一套筒的通孔與所述引出孔相應(yīng)設(shè)置；
第二接地板、連接件，所述第二接地板設(shè)有與所述引出孔相應(yīng)的第二通孔，所述第二接地板與所述離子聚焦模塊之間具有間隔，所述第二接地板通過(guò)所述連接件與所述離子聚焦模塊相連；
反射鏡，所述反射鏡設(shè)置在所述第二接地板上，所述反射鏡用于將外部光路通過(guò)所述離子聚焦模塊、所述第一套筒的通孔、所述第一通孔、所述引出孔反射至樣品靶上；
偏轉(zhuǎn)模塊，所述偏轉(zhuǎn)模塊設(shè)置在所述第二接地板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源，其特征在于，所述引出孔、所述第一通孔、所述第一套筒的通孔、所述第二通孔同軸設(shè)置，所述引出孔、所述第一通孔、所述第一套筒的通孔及所述第二通孔形成離子光路，所述反射鏡的反射面與所述離子光路之間的夾角a為45度至50度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源，其特征在于，所述反射鏡包括第一反射鏡與第二反射鏡，所述第一反射鏡用于將激光反射至所述樣品靶上，所述第二反射鏡用于將所述樣品靶上的圖像信息反射至圖像擷取裝置中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源，其特征在于，所述連接件能夠用于調(diào)節(jié)所述第二接地板遠(yuǎn)離或靠近所述離子聚焦模塊。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的離子源，其特征在于，所述連接件包括套管與螺桿；所述套管內(nèi)側(cè)壁設(shè)有與所述螺桿相配合的螺紋，所述套管設(shè)置在所述離子聚焦模塊上；所述螺桿貫穿所述第二接地板，且所述螺桿與所述第二接地板可轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述螺桿插裝至所述套管中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源，其特征在于，所述離子聚焦模塊包括第一極板、第二極板、導(dǎo)電柱、第二絕緣件、第三絕緣件、第三接地板及第四接地板；所述第一極板通過(guò)所述導(dǎo)電柱與所述第二極板相連，所述第一極板通過(guò)所述第二絕緣件與所述第三接地板相連，所述第一極板具有與所述引出孔相應(yīng)的第三通孔；所述第三接地板設(shè)有與所述引出孔相應(yīng)的第四通孔，所述第三接地板與所述第一套筒相連；所述第二極板通過(guò)所述第三絕緣件與所述第四接地板相連，所述第二極板設(shè)有與所述引出孔相應(yīng)的第五通孔；所述第四接地板設(shè)有與所述引出孔相應(yīng)的第六通孔，所述第四接地板與所述連接件相連。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的離子源，其特征在于，所述第二接地板側(cè)部具有凸耳，所述凸耳用于電性連接至質(zhì)譜儀外筒的內(nèi)側(cè)壁；所述連接件為導(dǎo)電件，所述第一套筒為導(dǎo)電套筒，第四接地板通過(guò)導(dǎo)線與所述第三接地板或第一接地板電性連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的離子源，其特征在于，還包括第二套筒與第三套筒；所述第二套筒設(shè)置在所述離子聚焦模塊端面上，所述第二套筒的通孔與所述引出孔相應(yīng)設(shè)置，所述第二套筒端面與所述第二接地板間隔設(shè)置；所述第三套筒設(shè)置所述第二接地板上，且所述第三套筒套設(shè)在所述偏轉(zhuǎn)模塊外部。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任意一項(xiàng)所述的離子源，其特征在于，所述引出孔為錐型孔，所述錐型孔的孔徑在遠(yuǎn)離所述樣品靶的方向上逐漸變大。
10.一種質(zhì)譜儀，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至9任意一項(xiàng)所述的離子源，還包括用于放置待測(cè)樣品的樣品靶，以及用于分析離子的質(zhì)量分析器。
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