[發明專利]半導體裝置的制造方法在審
| 申請號: | 201711338622.5 | 申請日: | 2017-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN108206141A | 公開(公告)日: | 2018-06-26 |
| 發明(設計)人: | 佐藤海晴;畑佐啟太;奧村知巳 | 申請(專利權)人: | 豐田自動車株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/60 | 分類號: | H01L21/60;H01L21/607 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 高培培;車文 |
| 地址: | 日本愛知*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半成品 半導體元件 半導體裝置 導電性襯墊 上表面 下表面 釬焊 焊料 導電性構件 預備 制造 接合 接合線 熔融 | ||
1.一種半導體裝置的制造方法,其中,
所述半導體裝置具備:
半導體元件;
第一導電性構件,接合于所述半導體元件的下表面;
第二導電性構件,經由導電性襯墊接合于所述半導體元件的上表面;及
銅制的接合線,接合于所述半導體元件的所述上表面,
所述制造方法包括:
準備第一半成品的工序,在該第一半成品中,所述導電性襯墊的上表面釬焊于所述第二導電性構件,并且在所述導電性襯墊的下表面設置有預備焊料;
準備第二半成品的工序,在該第二半成品中,所述半導體元件的所述下表面釬焊于所述第一導電性構件,并且在所述半導體元件的所述上表面接合有所述接合線;及
使所述第一半成品的預備焊料熔融而將所述第二半成品的所述半導體元件的所述上表面釬焊于所述第一半成品的所述導電性襯墊的所述下表面的工序。
2.根據權利要求1所述的半導體裝置的制造方法,
在所述導電性襯墊上沿著所述下表面的周緣設置有凹部。
3.根據權利要求1或2所述的半導體裝置的制造方法,
準備所述第一半成品的工序包括在所述導電性襯墊位于所述第二導電性構件的鉛垂上方的狀態下將所述導電性襯墊釬焊于所述第二導電性構件的工序。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的半導體裝置的制造方法,
準備所述第二半成品的工序包括將所述半導體元件的所述下表面釬焊于所述第一導電性構件的工序和將所述接合線接合到釬焊于所述第一導電性構件的所述半導體元件的所述上表面的工序。
5.根據權利要求4所述的半導體裝置的制造方法,
將所述接合線接合的工序包括對釬焊于所述第一導電性構件的所述半導體元件進行加熱的工序和利用超聲波接合法將所述接合線接合到加熱后的所述半導體元件的所述上表面的工序。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





