[發明專利]一種高通量水熱合成及表面處理裝置

在審

• 申請號: 201711337392.0
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN108014718A
• 公開（公告）日: 2018-05-11
• 發明（設計）人: 翁杰;李興;許韜韜;楊杰;何磊;郭泰林;魯雄;段可
• 申請（專利權）人: 西南交通大學
• 主分類號: B01J3/04
• 分類號: B01J3/04;B01J19/00
• 代理公司: 成都信博專利代理有限責任公司 51200
• 代理人: 王沙沙

1.一種高通量水熱合成及表面處理裝置，其特征在于，包括裝置本體(1)和設置在裝置本體(1)內的加熱及冷卻處理裝置(3)；加熱及冷卻處理裝置(3)包括上蓋(31)、底蓋(33)和設置在上蓋(31)和底蓋(33)之間的隔熱部(32)；隔熱部(32)內設置有多個導熱套筒(5)，導熱套筒(5)內設置有水熱反應合成釜(4)；導熱套筒(5)外表面均纏繞有冷卻水管(6)和電爐絲(7)；冷卻水管(6)和電爐絲(7)均連接溫度控制裝置。

2.根據權利要求1所述的一種高通量水熱合成及表面處理裝置，其特征在于，所述裝置本體(1)為箱式結構，設置有箱門(2)。

3.根據權利要求1所述的一種高通量水熱合成及表面處理裝置，其特征在于，所述裝置本體(1)設置有三層；裝置本體(1)每層內均設置有結構相同的加熱及冷卻處理裝置(3)。

4.根據權利要求2所述的一種高通量水熱合成及表面處理裝置，其特征在于，所述箱門(2)為推拉式門。

5.根據權利要求1所述的一種高通量水熱合成及表面處理裝置，其特征在于，所述導熱套筒(5)外表面的冷卻水管(6)和電爐絲(7)并行纏繞。

6.根據權利要求1所述的一種高通量水熱合成及表面處理裝置，其特征在于，所述導熱套筒(5)陣列式的均勻設置在隔熱部(32)內。