[發明專利]用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置

在審

• 申請號: 201711336659.4
• 申請日: 2017-12-14
• 公開（公告）號: CN109957778A
• 公開（公告）日: 2019-07-02
• 發明（設計）人: 黃樂;祝海生;陳立;凌云;黃夏;孫桂紅;黃國興
• 申請（專利權）人: 湘潭宏大真空技術股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 馮子玲

本發明公開一種用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置，包括旋轉組件、傳送組件和支撐組件，所述旋轉組件包括旋轉電機、旋轉架，所述旋轉電機安裝于鍍膜生產線工藝室底板的下方，所述旋轉架位于底板的上方，所述旋轉電機與旋轉架固定連接，并驅動旋轉架轉動；所述傳送組件包括多個傳動輪，所述傳動輪分別安裝于旋轉架的兩側；所述支撐組件包括支撐架，所述支撐架固定于旋轉架上；玻璃基片的基片架設有兩個，分別位于支撐架的兩側，所述基片架夾緊于支撐架和傳動輪之間，所述基片架通過傳動輪的滾動進行移動。本發明的用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置，能夠進行旋轉翻面，自動化程度高，工藝程序連貫，提高了產品的良率。

技術領域

本發明涉及玻璃鍍膜結構技術領域，尤其涉及一種用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置。

背景技術

鍍膜玻璃(Coated glass)也稱反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學性能，滿足某種特定要求。鍍膜玻璃按產品的不同特性，可分為以下幾類：熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導電膜玻璃等。

鍍膜玻璃的生產方法很多，主要有真空磁控濺射法、真空蒸發法、化學氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計制造多層復雜膜系，可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色，膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好，是生產和使用最多的產品之一。真空蒸發鍍膜玻璃的品種和質量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空濺射法取代。化學氣相沉積法是在浮法玻璃生產線上通入反應氣體在灼熱的玻璃表面分解，均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃。該方法的特點是設備投入少、易調控，產品成本低、化學穩定性好，可進行熱加工，是最有發展前途的生產方法之一。溶膠—凝膠法生產鍍膜玻璃工藝簡單，穩定性也好，不足之處是產品光透射比太高，裝飾性較差。

目前的鍍膜設備采用雙面鍍膜的方式，設備有正反兩面區分，設備兩邊同時裝有靶材，且裝載玻璃的基片架也分正反兩面，加熱器裝在真空室中心位置，上下為一個整體式，采用吊裝方式懸空掛起，在鍍膜過程中，在基片架的正反面分別裝載玻璃，鍍膜時裝有玻璃的基片架在真空室內行走，基片架的正反面分別位于中間加熱器的兩側，經過靶區通過磁控濺射的方式進行鍍膜，這種方式一次只能鍍玻璃的一面，如果玻璃的另外一面也需要鍍膜，則必須鍍完玻璃一面后，將鍍完一面的玻璃重新經過清洗，然后再次經過真空室進行鍍膜，即鍍膜工序要重復兩次才能完成，這樣不但浪費人力、財力、產量低而且玻璃經過多次周轉后其良率也會大大下降。

整個真空腔體的結構設計，一次只能完成玻璃基板單面的膜層制備，如果玻璃基板兩個表面均需要制備膜層，現有技術的做法只能是制備完玻璃基板一個表面的膜層后，將玻璃基板再重復第一次鍍膜的工序去完成第二面膜層的制備，這種工藝在第二次制備膜層的過程中，會對第一次膜層的性能有所影響，并且由于二次鍍膜會造成良率的下降，總體生產成本較高。

發明內容

本發明要解決的技術問題就在于：針對現有技術存在的技術問題，本發明提供一種用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置，該傳送旋轉裝置能夠進行旋轉翻面，自動化程度高，工藝程序連貫，提高了產品的良率。

為解決上述技術問題，本發明提出的技術方案為：

一種用于雙面玻璃鍍膜的傳送旋轉裝置，包括旋轉組件、傳送組件和支撐組件，所述旋轉組件包括旋轉電機、旋轉架，所述旋轉電機安裝于鍍膜生產線工藝室底板的下方，所述旋轉架位于底板的上方，所述旋轉電機與旋轉架固定連接，并驅動旋轉架轉動；所述傳送組件包括多個傳動輪，所述傳動輪分別安裝于旋轉架的兩側；所述支撐組件包括支撐架，所述支撐架固定于旋轉架上；玻璃基片的基片架設有兩個，分別位于支撐架的兩側，所述基片架夾緊于支撐架和傳動輪之間，所述基片架通過傳動輪的滾動進行移動。

作為上述技術方案的進一步改進：

所述支撐架頂端固定設有上支撐座，所述上支撐座的兩端分別設有凹槽，所述基片架的頂部位于凹槽內。