[發(fā)明專利]爆炸加載電測(cè)-動(dòng)態(tài)光彈性混合實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711334856.2 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109959570A | 公開(公告)日: | 2019-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 岳中文;王煦;宋耀 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國礦業(yè)大學(xué)(北京) |
| 主分類號(hào): | G01N3/313 | 分類號(hào): | G01N3/313;G01N3/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100083 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 凸透鏡 四分之一波片 動(dòng)態(tài)光彈性 實(shí)驗(yàn)系統(tǒng) 偏振片 電測(cè) 加載 試件 點(diǎn)火器 動(dòng)態(tài)應(yīng)力強(qiáng)度因子 超動(dòng)態(tài)應(yīng)變儀 動(dòng)態(tài)斷裂韌度 多通道脈沖 高速攝影機(jī) 數(shù)據(jù)采集儀 對(duì)比分析 激光光源 力學(xué)參數(shù) 裂紋尖端 系統(tǒng)綜合 炸藥藥包 控制器 動(dòng)態(tài)光 加載臺(tái) 擴(kuò)束鏡 屏蔽線 信號(hào)線 應(yīng)變量 應(yīng)變片 應(yīng)力場(chǎng) 條紋 爆炸 焦散 橋盒 延時(shí) 電腦 研究 圖片 | ||
本發(fā)明公開了一種爆炸加載電測(cè)?動(dòng)態(tài)光彈性混合實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)及方法,包括激光光源(1)、擴(kuò)束鏡(2)、凸透鏡A(3)、偏振片A(4)、四分之一波片A(5)、四分之一波片B(6)、偏振片B(7)、凸透鏡B(8)、高速攝影機(jī)(9)、電腦(10)、實(shí)驗(yàn)加載臺(tái)(11)、延時(shí)與控制器(12)、多通道脈沖點(diǎn)火器(13)、超動(dòng)態(tài)應(yīng)變儀(14)、數(shù)據(jù)采集儀(15)、試件(33)、炸藥藥包(34)、橋盒、信號(hào)線、屏蔽線、應(yīng)變片;該系統(tǒng)綜合了兩種實(shí)驗(yàn)方法的優(yōu)點(diǎn),能夠測(cè)得運(yùn)動(dòng)裂紋的擴(kuò)展速度、裂紋尖端區(qū)域應(yīng)變量、動(dòng)態(tài)應(yīng)力強(qiáng)度因子、動(dòng)態(tài)斷裂韌度等各項(xiàng)力學(xué)參數(shù),還可獲得試件全應(yīng)力場(chǎng)動(dòng)態(tài)光彈條紋、焦散斑系列圖片等信息,通過綜合對(duì)比分析兩種方法同時(shí)測(cè)得的數(shù)據(jù),能夠更加準(zhǔn)確、科學(xué)、定量地研究爆生運(yùn)動(dòng)裂紋的擴(kuò)展機(jī)理及運(yùn)動(dòng)裂紋在擴(kuò)展過程中的相互作用關(guān)系。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及實(shí)驗(yàn)力學(xué)研究領(lǐng)域的動(dòng)態(tài)斷裂力學(xué)實(shí)驗(yàn)研究方法,尤其涉及一種研究爆生運(yùn)動(dòng)裂紋擴(kuò)展機(jī)理的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)
鉆眼爆破、光面爆破、定向斷裂控制爆破技術(shù)在露天礦和深部礦井、道路建設(shè)、隧道和立井開挖中有著廣泛的應(yīng)用。但是,目前爆破破巖的具體過程尚未完全弄清。一般認(rèn)為,巖體內(nèi)最初形成的裂縫是由爆炸應(yīng)力波造成的,隨后爆炸氣體滲入裂隙并在靜壓作用下,使應(yīng)力波造成的裂紋進(jìn)一步擴(kuò)展。爆炸是一個(gè)極其復(fù)雜的過程,爆破過程的瞬態(tài)性、破壞性使得觀測(cè)到的爆破作用效果往往是在爆炸應(yīng)力波和爆生氣體綜合作用下形成的,綜合作用的過程是非常復(fù)雜和多變的。這給爆破破巖機(jī)理的實(shí)驗(yàn)研究帶來了很大難度。研究爆炸載荷作用下巖體內(nèi)運(yùn)動(dòng)裂紋尖端的應(yīng)力應(yīng)變水平,分析、總結(jié)裂紋尖端能量積累、釋放過程及裂紋擴(kuò)展過程中裂紋尖端應(yīng)力應(yīng)變的變化規(guī)律,能夠?yàn)楸品桨竷?yōu)化、施工方案改進(jìn)提供指導(dǎo)。
目前,國內(nèi)外學(xué)者針對(duì)運(yùn)動(dòng)裂紋尖端應(yīng)力場(chǎng)的變化規(guī)律已經(jīng)有了一定的研究成果,但是利用應(yīng)變片電測(cè)方法和動(dòng)態(tài)光彈性方法同步分析運(yùn)動(dòng)裂紋尖端應(yīng)力場(chǎng)變化規(guī)律的研究尚未進(jìn)行。這兩種方法各有特點(diǎn):應(yīng)變片電測(cè)法可以測(cè)量透明及非透明材料運(yùn)動(dòng)裂紋尖端區(qū)域的應(yīng)變量,進(jìn)而求出動(dòng)態(tài)斷裂韌度、動(dòng)態(tài)應(yīng)力強(qiáng)度因子等力學(xué)參數(shù);動(dòng)態(tài)光彈性方法可以觀測(cè)試件全應(yīng)力場(chǎng)的應(yīng)力變化情況與應(yīng)力分布狀態(tài),獲得試件全應(yīng)力場(chǎng)動(dòng)態(tài)光彈條紋,從而得到爆生運(yùn)動(dòng)裂紋的擴(kuò)展速度、裂紋尖端區(qū)域應(yīng)變量、動(dòng)態(tài)應(yīng)力強(qiáng)度因子等各項(xiàng)參數(shù)。本系統(tǒng)可以同時(shí)利用上述兩種方法,結(jié)合兩種方法的優(yōu)點(diǎn),獲得運(yùn)動(dòng)裂紋擴(kuò)展過程中的力學(xué)參數(shù),通過綜合比較、分析上述兩種方法同步測(cè)得的各項(xiàng)參數(shù),研究運(yùn)動(dòng)裂紋的擴(kuò)展機(jī)理,為今后的工程實(shí)踐提供理論基礎(chǔ),也對(duì)動(dòng)態(tài)斷裂力學(xué)的發(fā)展具有重要的理論和實(shí)際意義。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種可同步利用應(yīng)變片電測(cè)法和動(dòng)態(tài)動(dòng)態(tài)光彈性法研究爆炸產(chǎn)生的運(yùn)動(dòng)裂紋擴(kuò)展機(jī)理的實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)。應(yīng)變片電測(cè)法測(cè)量設(shè)備簡單,能夠測(cè)量特定點(diǎn)的應(yīng)變情況,測(cè)得數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性高。動(dòng)態(tài)動(dòng)態(tài)光彈性法操作便捷,能夠觀測(cè)試件全應(yīng)力場(chǎng)的應(yīng)力變化情況與應(yīng)力分布狀態(tài)。該系統(tǒng)綜合了兩種實(shí)驗(yàn)方法的優(yōu)點(diǎn),能夠測(cè)得運(yùn)動(dòng)裂紋的擴(kuò)展速度、裂紋尖端區(qū)域應(yīng)變量、動(dòng)態(tài)應(yīng)力強(qiáng)度因子、動(dòng)態(tài)斷裂韌度等各項(xiàng)力學(xué)參數(shù),還可獲得試件全應(yīng)力場(chǎng)動(dòng)態(tài)光彈條紋、焦散斑系列圖片等信息,通過綜合對(duì)比分析兩種方法同時(shí)測(cè)得的數(shù)據(jù),能夠更加準(zhǔn)確、科學(xué)、定量地研究爆生運(yùn)動(dòng)裂紋的擴(kuò)展機(jī)理及運(yùn)動(dòng)裂紋在擴(kuò)展過程中的相互作用關(guān)系。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
爆炸加載電測(cè)-動(dòng)態(tài)光彈性混合實(shí)驗(yàn)系統(tǒng),包括激光光源(1)、擴(kuò)束鏡(2)、凸透鏡A(3)、偏振片A(4)、四分之一波片A(5)、四分之一波片B(6)、偏振片B(7)、凸透鏡B(8)、高速攝影機(jī)(9)、電腦(10)、實(shí)驗(yàn)加載臺(tái)(11)、延時(shí)與控制器(12)、多通道脈沖點(diǎn)火器(13)、超動(dòng)態(tài)應(yīng)變儀(14)、數(shù)據(jù)采集儀(15)、試件(33)、炸藥藥包(34)、橋盒、信號(hào)線、屏蔽線、應(yīng)變片;其中,數(shù)據(jù)采集儀(11)位于超動(dòng)態(tài)應(yīng)變儀(10)內(nèi)部。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國礦業(yè)大學(xué)(北京),未經(jīng)中國礦業(yè)大學(xué)(北京)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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