[發(fā)明專利]顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711332633.2
• 申請日: 2017-12-13
• 公開（公告）號: CN107861287B
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發(fā)明（設計）人: 袁帥;劉曉那;陳玉瓊;王孟杰;吳臣臣;鄭子易
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1335
• 分類號: G02F1/1335
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 趙天月

1.一種顯示面板，其特征在于，包括相對設置的陣列基板和蓋板，設置在所述陣列基板和所述蓋板之間的液晶層，以及設置在所述蓋板遠離所述陣列基板一側的偏光片；

其中，所述陣列基板包括：

基板；

反射層，所述反射層設置在所述基板靠近所述蓋板的表面上；

多個反射彩膜層，所述多個反射彩膜層彼此間隔且呈陣列分布在所述反射層遠離所述基板的表面上，用于使得經所述反射層反射后且經過所述反射彩膜層出射的光具有預定顏色；所述反射彩膜層包括：

氧化鋁層，所述氧化鋁層設置在所述反射層遠離所述基板的表面上；

金屬等離子體納米結構，所述金屬等離子體納米結構設置在所述氧化鋁層遠離所述基板的表面上，所述金屬等離子體納米結構為具有納米級大小孔洞的金屬等離子體薄膜，所述孔洞的直徑為100-300nm；

其中，所述預定顏色包括多種不同的顏色，所述出射的光顏色不同的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度不同。

2.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述金屬等離子體納米結構為金等離子體納米結構。

3.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述預定顏色包括紅色、綠色和藍色，所述出射的光為紅色的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度為43-53nm，所述出射的光為綠色的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度為90-96nm，所述出射的光為藍色的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度為80-86nm。

4.根據權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述出射的光為紅色的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度為48nm，所述出射的光為綠色的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度為93nm，所述出射的光為藍色的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度為83nm。

5.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，形成所述反射層的材料包括銀、鋁和鋁釹合金中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陣列基板還包括：

電路結構，所述電路結構與所述反射彩膜層同層設置，且位于相鄰的反射彩膜層之間；

第一平坦化層，所述第一平坦化層設置在所述多個反射彩膜層和所述電路結構遠離所述基板的表面上；

第一電極，所述第一電極設置在所述第一平坦化層遠離所述基板的表面上。

7.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述蓋板包括：

透明基板；

黑矩陣，所述黑矩陣設置在所述透明基板靠近所述陣列基板的表面上；

第二平坦化層，所述第二平坦化層與所述黑矩陣同層設置；

第二電極，所述第二電極設置在所述黑矩陣和所述第二平坦化層靠近所述陣列基板的表面上。

8.一種顯示裝置，其特征在于，包括權利要求1-7中任一項所述的顯示面板。

9.一種制備顯示面板的方法，其特征在于，包括：

形成相對設置的陣列基板和蓋板；

將所述陣列基板和所述蓋板進行對盒處理；

在所述蓋板遠離所述陣列基板的表面上形成偏光片；

其中，形成所述陣列基板包括：

在基板靠近所述蓋板的表面上形成反射層；

在所述反射層遠離所述基板的表面上形成多個反射彩膜層，所述多個反射彩膜層彼此間隔且呈陣列分布，用于使得經所述反射層反射后且經過所述反射彩膜層出射的光具有預定顏色；

其中，所述反射彩膜層包括：

氧化鋁層，所述氧化鋁層設置在所述反射層遠離所述基板的表面上；

金屬等離子體納米結構，所述金屬等離子體納米結構設置在所述氧化鋁層遠離所述基板的表面上，所述金屬等離子體納米結構為具有納米級大小孔洞的金屬等離子體薄膜，所述孔洞的直徑為100-300nm；

所述預定顏色包括多種不同的顏色，所述出射的光顏色不同的反射彩膜層中的氧化鋁層的厚度不同。