[發明專利]一種制備拋光層的模具

有效

• 申請號: 201711328550.6
• 申請日: 2017-12-13
• 公開（公告）號: CN108127580B
• 公開（公告）日: 2019-09-13
• 發明（設計）人: 朱順全;車麗媛;張季平;吳曉茜
• 申請（專利權）人: 湖北鼎匯微電子材料有限公司
• 主分類號: B24D11/00
• 分類號: B24D11/00
• 代理公司: 武漢智權專利代理事務所(特殊普通合伙) 42225
• 代理人: 胡娟

1.一種制備拋光層的模具，其包括下模(1)和設于所述下模(1)表面上的環狀上模(2)，所述環狀上模(2)和所述下模(1)共同圍成圓柱形模腔(3)，所述模腔(3)容納用于制備拋光層的液體聚合混合物，其特征在于：

所述環狀上模(2)的側壁沿所述模腔(3)的軸線方向設有凸出部(21)，所述凸出部(21)具有容納腔(211)，所述容納腔(211)貫穿所述凸出部(21)并與所述模腔(3)相連通，所述容納腔(211)的橫截面垂直于所述模腔(3)的軸線，且沿所述模腔(3)的軸線由中心向兩端的方向上，所述容納腔(211)的橫截面面積逐漸變大；

所述容納腔(211)的內壁為連續曲面，所述容納腔(211)的中心與所述模腔(3)的軸線所在平面，與所述容納腔(211)的內壁相交得到連續曲線，所述連續曲線滿足：

X＝αZ²+β,0≤Z＜a，

a≤Z＜b，

X＝αZ²+δ,b≤Z≤c，

εb^-φ+χ＝αb²+δ，

其中，Z坐標軸平行于所述模腔(3)的軸線且向上；所述容納腔(211)的中心與所述模腔(3)的軸線所在平面，與所述下模(1)表面相交的相交線位于X坐標軸，X坐標軸指向所述容納腔(211)外側，0.5≤φ≤0.8，0.6≤β≤1，α、ε、χ和δ均為常數，ε＞0，a、b和c均為常數，且a<b＜c，c＝H，H為所述模腔(3)的高度。

2.如權利要求1所述的制備拋光層的模具，其特征在于：

1.5cm≤a≤2.9cm，5.5cm≤b≤9.6cm，7.4cm≤c≤12cm。

3.如權利要求1所述的制備拋光層的模具，其特征在于：

所述下模(1)包括底座(11)、凸模(12)和內腔襯套(13)，所述凸模(12)設于所述底座(11)表面上并一體成型，所述內腔襯套(13)可拆卸地設于所述凸模(12)表面上，所述內腔襯套(13)表面具有凹槽結構；

所述凸模(12)伸入所述環狀上模(2)內，并與所述環狀上模(2)相匹配，所述環狀上模(2)通過嵌入件(4)固定連接在所述底座(11)上。

4.如權利要求1所述的制備拋光層的模具，其特征在于：所述下模(1)包括底座(11)、凸模(12)和內腔襯套(13)，所述凸模(12)設于所述底座(11)表面上并一體成型，所述內腔襯套(13)可拆卸地設于所述凸模(12)表面上，所述內腔襯套(13)表面具有凹槽結構；

所述凸模(12)表面設有限位凹槽(14)，所述環狀上模(2)安裝在所述限位凹槽(14)中，并通過嵌入件(4)與所述凸模(12)固定連接。

5.如權利要求4所述的制備拋光層的模具，其特征在于：所述凹槽結構包括間隔設置的至少5個凹槽(15)，所述凹槽(15)的深度為0.1～1cm，所述凹槽(15)的間距和所述凹槽(15)的寬度均為0.5～8cm。

6.如權利要求1所述的制備拋光層的模具，其特征在于：所述環狀上模(2)包括兩個半模(22)，兩個所述半模(22)通過企口結構(221)緊密扣合，兩個所述半模(22)和所述下模(1)共同圍成所述模腔(3)，所述凸出部(21)和一個所述半模(22)一體成型。

7.一種制備拋光層的模具，其包括下模(1)和設于所述下模(1)表面上的環狀上模(2)，所述環狀上模(2)和所述下模(1)共同圍成圓柱形模腔(3)，所述模腔(3)容納用于制備拋光層的液體聚合混合物，其特征在于：

所述環狀上模(2)的側壁沿所述模腔(3)的軸線方向設有凸出部(21)，所述凸出部(21)具有容納腔(211)，所述容納腔(211)貫穿所述凸出部(21)并與所述模腔(3)相連通，所述容納腔(211)的橫截面垂直于所述模腔(3)的軸線，且沿所述模腔(3)的軸線由所述模腔(3)的頂面到底面的方向上，所述容納腔(211)的橫截面面積逐漸變大。