[發明專利]用于潛指印顯現的復合材料及其制備方法

在審

• 申請號: 201711328168.5
• 申請日: 2017-12-13
• 公開（公告）號: CN108059954A
• 公開（公告）日: 2018-05-22
• 發明（設計）人: 喻彥林;顏磊
• 申請（專利權）人: 喻彥林
• 主分類號: C09K11/58
• 分類號: C09K11/58;C09K11/02;A61B5/1172
• 代理公司: 重慶弘旭專利代理有限責任公司 50209
• 代理人: 石歡歡

本發明屬于含鈹、鎂、堿金屬或堿土金屬的發光材料技術領域，具體涉及一種用于潛指印顯現的復合材料。所述用于潛指印顯現的復合材料，由金納米團簇與固載有牛血清白蛋白的蒙脫土復合而成。本發明的復合材料安全無毒，具有良好的生物相容性，且對潛指印進行顯現時，對指印載體和指印殘留物無污損；不僅可以用紫外光、可見光激發，還可以用紅外光激發；有效避免了背景熒光干擾，有利于提高指印圖像的質量；同時避免了紫外輻射對指印載體、指印物質及操作人員的危害；不僅能夠顯現指印的紋線類型(一級特征)、指紋一般細節特征(二級特征)，而且能夠清晰顯現汗孔等指紋三級特征；且穩定好。

技術領域

本發明屬于含鈹、鎂、堿金屬或堿土金屬的發光材料技術領域，具體涉及一種用于潛指印顯現的復合材料及其制備方法。

背景技術

指紋是第一指節上的皮膚花紋，具有人各不同、觸物留痕等特點，是最可靠、最方便的人身識別方法之一，也是最為重要的刑事證據之一。與其他生物特征識別方法如人臉識別、虹膜識別等相比，指紋識別具有唯一性、相對穩定性和采集相對容易等優點(“指紋識別技術及其應用”，梅中玲，中國人民公安大學學報(自然科學版)，2008年第2期，第81頁左欄第1段)。根據是否容易被發現，指紋可分為以下三類：明顯紋-目視即可見的紋路，如手沾油漆、血液、墨水等物品轉印而成；成型紋-在柔軟物質，如手接觸壓印在蠟燭、粘土上發現的指紋；潛伏指紋(又稱為潛指印)-經身體自然分泌物如汗液轉移形成的指紋紋路，目視不易發現，是案發現場中最常見的指紋。潛指印雖然肉眼無法看到，但經過特別的方法及化學試劑加以處理，即能顯現出來。

潛指印的常見顯現方法有粉末顯現、特種光顯現等物理顯現技術，化學染色(如茚三酮、甲基聯苯胺等)、502熏顯、硝酸銀顯現等化學方法及化學與物理結合的顯現技術等等。其中，粉末法使用方便、顯現效果較好，且顯現過程中對指印和承載客體的影響較少(無損)，不影響進一步采用化學方法顯現等特點。熒光粉末法采用具有熒光性質的粉末，適用于復雜圖案背景上的潛指印顯現，在粉末法中具有獨特優勢。但熒光粉末法的熒光粉末多采用有毒化合物制成，具有較大毒性，不利于其廣泛應用。

近年來，隨著納米材料和納米技術的不斷發展，其在潛指印顯現方面的應用也受到越來越多人的關注。這些納米材料包括以半導體量子點為代表的熒光納米材料、稀土摻雜的發光納米材料、金銀納米團簇以及二氧化鈦、二氧化硅構成的復合納米材料等等。其中，金納米團簇具有性質穩定、量子產率高、發光穩定、熒光光譜可調節等特點，具有廣泛的應用前景。同時，金納米團簇無毒，具有優異的生物相容性。目前，金納米團簇多以液體試劑浸泡、噴涂進行顯現，如公開號為CN101485572A的專利申請公開了一種采用葡萄糖或蔗糖修飾的金納米粒子一步顯現潛指印的方法，但該方法顯現潛指印，會對指紋載體會帶來一定程度的污損，不利于對指印物質的進一步分析，限制了其在刑事現場的應用。

也有用蒙脫土制備潛指印顯現熒光粉的，如公開號為CN101735817A的專利申請公開了一種以納米技術將具有高熒光特性的II-VI族半導體量子點CdTe嵌入蒙脫土基質層間來制備印痕提取納米熒光粉的方法，但由于量子點本身的毒性會對人類、其他生物及生態環境造成潛在危害，同時，CdTe會抑制細胞增殖，導致細胞凋亡，抑制細胞有絲分裂(“三種不同結構量子點(CdTe、CdTe/CdS、CdTe/CdS/ZnS)的細胞毒性比較”，李科，中南大學碩士學位論文，2013年，摘要)。

目前，文獻和市場上沒有將金納米團簇和蒙脫土復合到一起的用于潛指印顯現的復合材料。

發明內容

有鑒于此，本發明的目的在于提供一種用于潛指印顯現的復合材料，該復合材料將金納米團簇和蒙脫土復合到一起，安全無毒，生物相容性好，且不會對指紋載體會帶來污損。

將金納米團簇和蒙脫土進行復合，難以保證二者能夠穩定結合。

為實現上述目的，本發明的技術方案為：

用于潛指印顯現的復合材料，由金納米團簇與固載有牛血清白蛋白的蒙脫土復合而成。