[發明專利]一種基于一次燒的內墻磚的制備工藝在審
| 申請號: | 201711318605.5 | 申請日: | 2017-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN108002819A | 公開(公告)日: | 2018-05-08 |
| 發明(設計)人: | 江想健;萬祖安;楊九大;黃德權;譚熒堅;陳彥龍;汪先鎮;彭斐;王麗紅 | 申請(專利權)人: | 廣東冠星陶瓷企業有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/14 | 分類號: | C04B35/14;C04B35/622;C03C8/00 |
| 代理公司: | 廣州市科豐知識產權代理事務所(普通合伙) 44467 | 代理人: | 龔元元 |
| 地址: | 511500 廣東省清遠市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 一次 內墻 制備 工藝 | ||
本發明涉及陶瓷領域,具體地說,涉及一種基于一次燒的內墻磚的制備工藝,所述的內墻磚通過將原料球磨、壓坯、干燥、布釉和一次燒制后得到;其中,所述的原料包括如下組分:SiO2 64?65%;Al2O3 16.5?17.5%;Fe2O3 1.2?1.5;CaO+MgO 6.5?7.5%;K2O+Na2O2.0?2.5%;燒失量5?8%;所述的燒制過程中,溫度為1140?1150℃;燒制時間為75?80min本發明的目的是提供基于一次燒的內墻磚的制備工藝,該工藝制備得到的內墻磚尺寸變形率低、釉面品質恒定不受坯體影響。
技術領域
本發明涉及陶瓷領域,具體地說,涉及一種基于一次燒的內墻磚的制備工藝。
背景技術
現有的瓷磚制備過程中,可以分為一次燒制和二次燒制工藝。
一次燒制的工藝由于坯體排氮排氣效果差,導致釉面品質和坯體品質難于控制。
作為改進,業內大多采用二次燒制工藝,通過二次燒制工藝來保證釉面品質。但是二次燒制存在的問題也是不容忽視的,具體來說,能耗高、效率低、尺寸經過二次燒制后不容易控制、較低的尺寸精度要求對產品進行磨邊。
發明內容
本發明的目的是提供一種基于一次燒的內墻磚的制備工藝,該工藝制備得到的內墻磚尺寸變形率低、釉面品質恒定不受坯體影響。
本發明提供的技術方案為:一種基于一次燒的內墻磚的制備工藝,所述的內墻磚通過將原料球磨、壓坯、干燥、布釉和一次燒制后得到;
其中,所述的原料包括如下組分:
SiO2 64-65%;Al2O3 16.5-17.5%;Fe2O3 1.2-1.5;CaO+MgO 6.5-7.5%;K2O+Na2O 2.0-2.5%;燒失量5-8%;
優選地,述的原料包括如下組分:
SiO2 64-65%;Al2O3 17-17.5%;Fe2O3 1.2-1.5;CaO+MgO 6.5-7.5%;K2O+Na2O2.0-2.5%;燒失量7-8%;
所述的燒制過程中,溫度為1140-1150℃;燒制時間為75-80min。
在上述的基于一次燒的內墻磚的制備工藝中,所述的壓坯的壓力為18000-20000KN,所述的壓坯時間為6.5-8次/min。
在上述的基于一次燒的內墻磚的制備工藝中,所述的干燥的溫度為120-150℃,所述的干燥時間為65-75min。
在上述的基于一次燒的內墻磚的制備工藝中,所述的燒制過程中,溫度更為優選為1145℃;燒制時間更為優選為75min
有益效果:
本發明通過一次燒制工藝制備得到了符合標準的內墻磚產品,其邊長尺寸偏差為0.5-0.8mm,厚度偏差為±0.2mm;產品精度控制效果好,無需磨邊。表面平整度為0.4mm(相對于基準面,上凸或下凹距離);斷裂模數為25-30MPa;莫氏硬度4。
具體實施方式
下面結合具體實施方式,對本發明的技術方案作進一步的詳細說明,但不構成對本發明的任何限制。
實施例一
一種基于一次燒的內墻磚的制備工藝,所述的內墻磚通過將原料球磨、壓坯、干燥、布釉和一次燒制后得到;
其中,所述的原料包括如下組分:
SiO2 64.5%;Al2O3 17%;Fe2O3 1.3;CaO+MgO 7%;K2O+Na2O 2.2%;燒失量8%;
所述的燒制過程中,溫度為1145℃;燒制時間為75-80min。
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