[發明專利]一種二維微間距高密度陣列準直器及制備方法在審
| 申請號: | 201711318182.7 | 申請日: | 2017-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN107894667A | 公開(公告)日: | 2018-04-10 |
| 發明(設計)人: | 馬雨虹;楊睿;袁志林;宋麗丹 | 申請(專利權)人: | 武漢光迅科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B27/30 | 分類號: | G02B27/30;G02B6/32;G02B6/34 |
| 代理公司: | 北京天奇智新知識產權代理有限公司11340 | 代理人: | 劉黎明 |
| 地址: | 430205 湖北省*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 二維 間距 高密度 陣列 準直器 制備 方法 | ||
1.一種二維微間距高密度陣列準直器,其特征在于,包括:
光纖陣列(105A~105F),底板為1×N的V型槽結構,各光纖陣列(105A~105F)調試焦距一致性后依次疊壓封裝形成二維光纖陣列整體;
透鏡陣列固定框架(102),其內面設置若干個與光纖陣列(105A~105F)位于同一線度且中心對齊的透鏡陣列(101A~101F),其外面設置若干個與標準陣列準直器(803)同一線度及中心對齊的全反棱鏡條(801A、801B、801C、801D、801E)。
2.根據權利要求1所述的一種二維微間距高密度陣列準直器,其特征在于,所述二維光纖陣列中各層V型槽中光纖數量可為不等數量。
3.根據權利要求1所述的一種二維微間距高密度陣列準直器,其特征在于,中間一排透鏡陣列不經過全反棱鏡直接出光,其余N-1排透鏡陣列均經過全反棱鏡折光后出光。
4.根據權利要求1所述的一種二維微間距高密度陣列準直器,其特征在于,還包括N-3個全反棱鏡隔塊(801A~801C),其中中間排無全反棱鏡長條(801A、801B、801C、801D、801E)及全反棱鏡隔塊(802A、802B、802C),與中間排緊鄰的上下兩排陣列準直器所配置的全反棱鏡長條(801B、801C)直接固定在透鏡陣列固定框架(102)上,其余N-3排全反棱鏡長條(801A、801D、801E)用長度遞增的全反棱鏡隔塊(801A、801B、801C)固定在透鏡陣列固定框架(102)上,并保持各全反棱鏡長條(801A、801B、801C、801D、801E)在光的出射方向上的空間位置錯開。
5.根據權利要求1所述的一種二維微間距高密度陣列準直器,其特征在于,所述全反棱鏡(801A、801B、801C、801D、801E)以所述隔塊(801A、801B、801C)固定,所述各層隔塊(801A、801B、801C)厚度大于所述全反棱鏡(801A、801B、801C、801D、801E)的厚度,且所述各層隔塊(801A、801B、801C)厚度以全反棱鏡條(801A、801B、801C、801D、801E)厚度為增量遞增。
6.根據權利要求1所述的一種二維微間距高密度陣列準直器,其特征在于,所述全反棱鏡長條(801A、801B、801C、801D、801E)與所述透鏡陣列固定框架(102)貼合面為矩形,其中矩形長度大于所述透鏡陣列框架(102)出射面1×N光斑總寬度,矩形高度大于所述透鏡陣列框架(102)出射面1×N光斑最大高度。
7.根據權利要求1所述的一種二維微間距高密度陣列準直器,其特征在于,所述1×N光纖陣列(105A~105F)具有玻璃蓋板。
8.一種二維微間距高密度陣列準直器的制備方法,其特征在于,包括:
光纖陣列組裝步驟,將底板為1×N的V型槽結構的各光纖陣列(105A~105F)調試焦距一致性后依次疊壓封裝形成二維光纖陣列整體;
透鏡陣列組裝步驟,在與所述二維光纖陣列整體相連的透鏡陣列固定框架(102)內側設置若干個與光纖陣列(105A~105F)位于同一線度且中心對齊的透鏡陣列(101A~101F)以形成二維標準陣列準直器;
全反棱鏡組裝步驟,設置若干個與二維標準陣列準直器(803)每層位于同一線度且中心對齊的全反棱鏡條(801A、801B、801C、801D、801E)以形成微間距高密度陣列準直器。
9.根據權利要求7所述的一種二維微間距高密度陣列準直器的制備方法,其特征在于,所述全反棱鏡組裝步驟具體包括:
將一個1×N參考陣列準直器(803)裝置固定于微調架上并調試其沿出射面旋轉角及其中心位置,使其與二維陣列準直器前體某一層的1×N陣列準直器實現線度及中心對齊;
將全反棱鏡長條(801A、801B、801C、801D、801E)置于二維陣列準直器前體出射端并調試其沿二維陣列準直器前體出射面的旋轉角及中心位置,在其出射光與所述1×N參考陣列準直器位于相同線度并中心對齊后,將其固定于所述透鏡陣列固定框(102)上
重復上述過程N-1次以完成二維陣列準直器各層1×N陣列準直器輸出的間隔調整。
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