[發(fā)明專利]一種雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板及包括其的顯示器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711313104.8 | 申請日: | 2017-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN108196361B | 公開(公告)日: | 2020-06-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 白鵬飛;胡晶晶;唐彪;周國富 | 申請(專利權(quán))人: | 華南師范大學(xué);深圳市國華光電科技有限公司;深圳市國華光電研究院 |
| 主分類號: | G02B26/00 | 分類號: | G02B26/00 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 唐致明 |
| 地址: | 510006 廣東省廣州市番禺區(qū)外*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 雙穩(wěn)態(tài) 流體 顯示 下基板 包括 器件 | ||
1.一種雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板,其特征在于,包括下支撐板和依次設(shè)置于所述下支撐板上的導(dǎo)電層、疏水絕緣層和像素墻,所述像素墻圍成像素格陣列,所述各個像素格內(nèi)的導(dǎo)電層包括第一電極區(qū)、第二電極區(qū)和設(shè)于兩者之間的無電極區(qū),所述疏水絕緣層上對應(yīng)各個所述無電極區(qū)的位置設(shè)有親水圍堰,所述親水圍堰將每個像素格分成對應(yīng)所述第一電極區(qū)的第一區(qū)域、對應(yīng)所述第二電極區(qū)的第二區(qū)域,所述親水圍堰包括至少兩個不相連的圍堰體,所述圍堰體之間形成一個間隙,至少一個所述間隙對應(yīng)的無電極區(qū)呈弧形帶狀,所述弧形帶狀的無電極區(qū)向所述第一電極區(qū)拱起。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板,其特征在于,所述第一電極區(qū)的面積不大于所述像素格面積的三分之一。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板,其特征在于,所述弧形帶狀的無電極區(qū)的長度≤30μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板,其特征在于,所述弧形帶狀的無電極區(qū)的寬度為5-20μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板,其特征在于,所述親水圍堰包括不相連的圍堰體一和圍堰體二,所述圍堰體一和所述圍堰體二之間形成一個間隙。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板,其特征在于,所述親水圍堰的材料與像素墻的材料相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板,其特征在于,所述圍堰體的寬度為1-50μm,所述圍堰體的高度為200nm-50μm。
8.一種雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示器件,其特征在于,包括權(quán)利要求1-7任一項所述的雙穩(wěn)態(tài)電流體顯示下基板。
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