[發明專利]用于中空體的電磁處理單元的脫水環路

有效

• 申請號: 201711312126.2
• 申請日: 2017-12-12
• 公開（公告）號: CN108215132B
• 公開（公告）日: 2021-10-22
• 發明（設計）人: G·弗約萊;Y·拉奧格
• 申請（專利權）人: 西德爾合作公司
• 主分類號: B29C49/64
• 分類號: B29C49/64;B29C49/06;B29L22/00
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 姜雪梅

本發明公開了一種用于電磁處理塑料型胚的處理單元(1)，所述處理單元(1)包括：一系列處理模塊(8)，所述處理模塊各自包括：中空殼體(15)；發光組件(21)和脫水環路(59)，所述脫水環路用于經由脫水流體防止每個中空殼體(15)潮濕。所述脫水環路(59)在所述主體(9)外部延伸，其中，所述脫水環路能夠與加壓流體源(55)流體連通，其中，在所述脫水環路(59)上設有流體脫水器件(57，89)和流體循環器件(55a)，用于推動脫水流體供給到相應的中空殼體(15)。

技術領域

本發明整體涉及電磁處理由塑料材料制成的中空體，以加熱這些中空體。

更加具體地，本發明涉及一種通過使得容器(諸如，瓶、罐或燒瓶)的型胚通過處理單元來電磁加熱所述容器的型胚，所述處理單元裝備有多個電磁輻射源。

短語“型胚”是指通過將原材料注入和/或壓縮到注塑模具中獲得的預制件，或者是指通過吹塑預制件獲得的中間容器(或者中空體)，所述中間容器因某些原因需要進行補充熱處理。

背景技術

一種可能應用是鑒于通過拉伸吹塑預制件而形成容器且在已經對其加熱之后來加熱處于呈預制件形式的型胚。

盡管目前為止最廣泛地使用通過根據普朗克定律在連續光譜上由管狀白熾鹵素燈照射來加熱型胚的傳統技術，但是已經出現了基于使用在紅外線范圍內發光的單色輻射或者準單色輻射(諸如激光)的可替代技術。

激光加熱的性能和性質(特別地，光學精度)優于鹵素加熱的性能和性質，使得可能更快且更有選擇性地加熱型胚。

PCT申請WO2016012373(Sidel Participations名下的申請)公開了一種用于電磁處理由熱塑性材料制成的型胚的處理單元，所述處理單元包括多個加熱模塊，每一個所述多個加熱模塊優選地具有多個紅外線源。

更加具體地，WO2016012373的處理單元包括：

-一系列毗鄰的處理模塊，所述一系列處理模塊各自包括：

--主體，所述主體包括中空殼體；

--發光組件，所述發光組件布置在所述中空殼體中并且包括多個發光源；

--流體環路，流體環路設置在主體內，用于對發光組件進行熱調節；和

--脫水環路，所述脫水環路用于經由脫水流體防止每個中空殼體潮濕。

為了從每個中空殼體抽出水分，WO2016012373還公開了每個處理模塊因此可以包括除濕室，所述除濕室能夠形成于附加外殼上，所述附加外殼安裝在主體的后面(所述后面與前面相對，在所述前面上發光)上。

為了使得除濕室與前殼體流體連通，主體設置有通孔。除濕室至少部分地填充有除濕劑，諸如，硅膠或者任何等效物質。通過密封地緊固到附加外殼的可移除蓋可以實現用新的除濕劑替換飽和的除濕劑。

除了其性能，還需要增強處理單元的效率。更加精確地，由于通常通過冷卻而保持處于基本恒溫的發光組件，可能在中空殼體中發生凝結問題。

為了防止在彼此靠近(最小距離為大約100μm)的金屬區域或壁之間存在任何電弧以及還限制金屬區域或壁的氧化，要求管理和控制用于接收發光組件的中空殼體內的水分。

此外，通過使用與可再充的除濕劑接觸的流體來管理發光組件附近的水分包括以下缺陷：

-當除濕劑飽和時，必須定期更換除濕劑盒；

-每一個除濕室必須設置有檢測器，所述檢測器適于檢查含水率并且當除濕劑飽和時向用戶提供關于所述除濕劑盒的數據；

-這種解決方案的效率取決于除濕室的不滲透性如何，尤其是因為除濕室包括冷卻器，引發由于必須穿過限制除濕室的壁的電連接件而引起的問題。