[發(fā)明專利]一種含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711308809.0 | 申請日: | 2017-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN108255014B | 公開(公告)日: | 2019-07-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 杜永杰;楊衛(wèi)國;高代兵 | 申請(專利權(quán))人: | 珠海市能動科技光學(xué)產(chǎn)業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/033 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205 | 代理人: | 黃琳娟 |
| 地址: | 519050 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 干膜光阻 光固化單體 改性聚氨酯 附著力 光阻劑 自由基光引發(fā)劑 高分子粘合劑 熱聚合抑制劑 紫外光吸收劑 光聚合單體 鄰苯二甲酸 析出 重量份數(shù) 解析度 聚氨酯 增塑劑 改性 光膜 顯影 羧基 | ||
1.一種含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑,其特征在于,包括以下重量份數(shù)的組分:
所述特殊官能團(tuán)光固化單體屬于鄰苯二甲酸酯類物質(zhì),其中一個支鏈含有乙烯雙鍵,可參與光固化反應(yīng);另一端不含有可反應(yīng)性基團(tuán)但含有氯元素或者氮元素。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑,其特征在于,所述含有羧基的高分子粘合劑是由一個或多個乙烯類單體和一個或多個α,β-乙烯類不飽和羧基單體聚合而得,所述乙烯類單體選自羥烷基丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯、丙烯酸正丁酯、苯乙烯和烷基取代的苯乙烯中的一種或幾種,所述α,β-乙烯類不飽和羧基單體選自苯丙烯酸、丁烯酸、富馬酸、山梨酸、丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丙炔酸、馬來酸及它們的酸酐中的一種或幾種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑,其特征在于,所述自由基光引發(fā)劑選自雙咪唑類引發(fā)劑、二苯甲酮、二甲氧基苯基苯乙酮和N-苯基甘氨酸中的而一種或幾種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑,其特征在于,所述光聚合單體選自三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二縮三羥甲基丙烷四丙烯酸酯、六官能度聚酯丙烯酸酯、四官能度聚酯丙烯酸酯、乙氧化雙酚A甲基丙烯酸酯和三乙二醇二丙烯酸酯中的一種或幾種。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑,其特征在于,所述熱聚合抑制劑選自p-甲氧基苯酚、氫苯醌、特丁基鄰苯二酚、鄰苯三酚、β-萘酚、2,6-二特丁基-p-甲苯酚、2,2’-亞甲基-二(4-乙基-6-特丁基苯酚)、p-甲苯苯醌、四氯苯醌、芳基亞磷酸鹽和烷基芳基亞磷酸鹽中的一種或幾種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑,其特征在于,所述改性聚氨酯是乙氧基改性的聚氨酯或者乙氧基和丙氧基共同改性的聚氨酯,乙氧基的數(shù)量為1-30,丙氧基的數(shù)量為0-20。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的含有改性聚氨酯和光固化單體的干膜光阻劑,其特征在于,所述特殊官能團(tuán)光固化單體由鄰苯二甲酸酯化含有乙氧基和/或丙氧基的官能團(tuán)制備而得,乙氧基的數(shù)量為0-20,丙氧基的數(shù)量為0-20。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于珠海市能動科技光學(xué)產(chǎn)業(yè)有限公司,未經(jīng)珠海市能動科技光學(xué)產(chǎn)業(yè)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711308809.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





