[發明專利]防偽介質

有效

• 申請號: 201711308512.4
• 申請日: 2015-03-26
• 公開（公告）號: CN107933137B
• 公開（公告）日: 2020-06-05
• 發明（設計）人: 大川美保子;落合英樹;市川浩二;小手川雄樹
• 申請（專利權）人: 凸版印刷株式會社
• 主分類號: B42D25/30
• 分類號: B42D25/30;B42D25/40;G02B5/30
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 姜盛花;何立波

1.一種防偽介質，其特征在于，

具有：

記錄介質；以及

偏光面層，其配置在所述記錄介質上的一部分，

在所述偏光面層上利用通過照射激光得到的低消光比區域而形成圖像，所述低消光比區域是與所述偏光面層中的除了所述低消光比區域以外的部分相比，偏光面的消光比低的區域，

在所述偏光面層之上形成對激光的一部分進行遮光的遮光層，

在所述記錄介質上利用所述記錄介質的一部分而形成圖像，所述記錄介質的一部分是與所述記錄介質中的除了所述一部分以外的部分性質不同的部分，

在所述偏光面層所形成的所述圖像，記錄有與在所述記錄介質所形成的所述圖像中記錄的信息相關聯的信息。

2.根據權利要求1所述的防偽介質，其中，

所述偏光面層，通過將在支撐基材上具有所述偏光面層以及粘接層的轉印箔貼合在所述記錄介質上，從而被設置在所述記錄介質上。

3.根據權利要求1或2所述的防偽介質，其中，

所述偏光面層包含二色性染料和液晶。

4.根據權利要求1或2所述的防偽介質，其中，

所述偏光面層在單軸方向上取向。

5.根據權利要求1或2所述的防偽介質，其中，

所述偏光面層在至少雙軸方向上取向。

6.根據權利要求1或2所述的防偽介質，其中，

在所述偏光面層所形成的所述圖像和在所述記錄介質所形成的所述圖像包含個體信息，所述個體信息包含在個人的認證中所利用的個人認證信息、國家代碼、流水號以及批號中的任一個。