[發明專利]一種全天候谷物晾曬場在審
| 申請號: | 201711306892.8 | 申請日: | 2017-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN107843076A | 公開(公告)日: | 2018-03-27 |
| 發明(設計)人: | 鄒金財 | 申請(專利權)人: | 福清美豐農林科技有限公司 |
| 主分類號: | F26B9/10 | 分類號: | F26B9/10;F26B25/04;F26B25/00;A23B9/08 |
| 代理公司: | 杭州千克知識產權代理有限公司33246 | 代理人: | 裴金華 |
| 地址: | 350300 福建省*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 全天候 谷物 晾曬 | ||
1.一種全天候谷物晾曬場,其特征在于,包括:透光棚(1)、送谷裝置(2)、收谷裝置(3)和若干曬谷裝置(4);
所述透光棚(1)頂部為透光玻璃(11),所述透光棚(1)側壁上設置有通風風扇(12);
所述曬谷裝置(4)包括,下谷倉(41)、曬谷皮帶(42)和翻谷機構(43)、落谷回收機構(44)和收谷倉(45),所述下谷倉(41)用于將谷物撒落到曬谷皮帶(42)上,所述翻谷機構(43)用于對曬谷皮帶(42)上的谷物進行自動翻面;所述下谷倉(41)設置在所述曬谷皮帶(42)的一端,其上部為儲谷倉(411),下部為自上向下逐漸變寬的分谷口(412),所述分谷口(412)內設置有若干斜向布置的疏散槽(413),所述儲谷倉(411)與所述分谷口(412)之間設置有倉門開關(414);所述曬谷皮帶(42)包括,上部的晾曬面(42A)和下部的回收面(42B),所述晾曬面(42A)設置在所述分谷口(412)下方,所述分谷口(412)底部寬度與所述晾曬面(42A)的寬度相匹配;
所述送谷裝置(2)通過送谷管道(21)與所述下谷倉(41)相連;
所述收谷裝置(3)通過收谷管道(31)與所述收谷倉(45)相連。
2.根據權利要求1所述的一種全天候谷物晾曬場,其特征在于,所述翻谷機構(43)包括,回轉皮帶(431)、翻谷撥桿(432)和換位汽缸(433),其中所述翻谷撥桿(432)橫跨在所述曬谷皮帶(42)的上方,所述回轉皮帶(431)數量為兩個,分別設置在所述曬谷皮帶(42)寬度方向的兩側,所述回轉皮帶(431)上設置有插孔(4311),所述翻谷撥桿(432)包括兩端的插桿(4321)和中部的翻谷段(4322),所述插桿(4321)插接與所述插孔(4311)內,并在所述曬谷皮帶(42)的帶動下做回轉運動,所述換位汽缸(433)數量為兩個,對角地設置在兩個所述回轉皮帶(431)上。
3.根據權利要求1所述的一種全天候谷物晾曬場,其特征在于,所述翻谷段(4322)為波浪形,且一個波峰波谷之間的距離為8-22cm,所述插桿(4321)在所述換位汽缸(433)推動下沿所述曬谷皮帶(42)寬度方向滑動,且其滑動距離等于所述波峰波谷之間的距離。
4.根據權利要求1所述的一種全天候谷物晾曬場,其特征在于,所述落谷回收機構(44)包括,回收側板(441)、回收輸送帶(442)和提升機(443),所述回收側板(441)傾斜設置在所述曬谷皮帶(42)寬度方向的兩側,所述回收輸送帶(442)設置在所述回收側板(441)的下方,所述提升機(443)設置在所述回收輸送帶(442)靠近所述下谷倉(41)的一端。
5.根據權利要求4所述的一種全天候谷物晾曬場,其特征在于,所述提升機(443)包括,水平接料段(4431)、斜向提升段(4432)和落料板(4433),所述水平接料段(4431)設置在所述回收輸送帶(442)下方,所述斜向提升段(4432)將所述水平接料段(4431)與所述落料板(4433)相連,所述落料板(4433)朝向所述儲谷倉(411)的上部開口傾斜,所述水平接料段(4431)與所述斜向提升段(4432)為表面設置有輸送擋板(4434)的傳輸帶。
6.根據權利要求1所述的一種全天候谷物晾曬場,其特征在于,所述曬谷皮帶(42)通過震動架(46)固定在地面上,所述震動架(46)包括,底座(461)、震動支架(462)、震動電機(463)、偏心輪(464)、和復位彈簧(465),所述底座(461)位于所述震動支架(462)下方,所述曬谷皮帶(42)固定在所述震動支架(462)上,所述偏心輪(464)、和復位彈簧(465)設置在所述底座(461)與所述震動支架(462)之間,所述偏心輪(464)頂部與所述震動支架(462)底部相抵,所述偏心輪(464)在所述震動電機(463)帶動下轉動。
7.根據權利要求6所述的一種全天候谷物晾曬場,其特征在于,所述曬谷皮帶(42)邊緣設置有感應片(422),震動支架(462)沿所述述曬谷皮帶(42)長度方向固定有第一傳感器(4211)和第二傳感器(4212),所述第一傳感器(4211)設置在靠近所述下谷倉(41)的一端,所述第二傳感器(4212)設置在遠離所述下谷倉(41)的一端,并且所述第一傳感器(4211)和第二傳感器(4212)均位于所述下谷倉(41)的同一側。
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