[發(fā)明專利]曝光機構、曝光裝置及曝光系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711306712.6
• 申請日: 2017-12-11
• 公開（公告）號: CN107908079B
• 公開（公告）日: 2020-12-18
• 發(fā)明（設計）人: 張迅;易偉華;劉芳;劉松林
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 石佩

1.一種曝光機構，用于安裝于工作臺上以承載光罩以及曝光平臺，所述曝光平臺用于承載待曝光元件，其特征在于，所述曝光機構包括：

支架，包括相對的承載表面以及安裝表面，所述安裝表面用于與工作臺連接，所述支架包括主支架及兩個副支架，兩個所述副支架分別設于所述主支架兩端，且所述副支架與所述主支架間隔設置，所述主支架的承載表面與所述副支架的承載表面錯位；以及

支撐組件，包括第一支撐臺及第二支撐臺，所述第一支撐臺及所述第二支撐臺分別設于所述承載表面上，所述第一支撐臺與所述第二支撐臺之間的間距可調(diào)，以適應不同尺寸的曝光平臺，所述第一支撐臺及所述第二支撐臺遠離所述支架的表面用于承載橫跨于所述支撐組件上的光罩的兩端；以及

驅(qū)動組件，設于所述支架的承載表面，且與所述第一支撐臺和/或所述第二支撐臺連接，所述驅(qū)動組件用于驅(qū)動與其連接的所述第一支撐臺和/或所述第二支撐臺移動，以調(diào)節(jié)所述第一支撐臺與所述第二支撐臺之間的間距。

2.根據(jù)權利要求1所述的曝光機構，其特征在于，所述第一支撐臺的一端、所述第二支撐臺的一端均與所述主支架的承載表面抵接，所述第一支撐臺的另一端及所述第二支撐臺的另一端通過一個所述驅(qū)動組件與所述副支架的承載表面連接。

3.根據(jù)權利要求1所述的曝光機構，其特征在于，所述驅(qū)動組件的數(shù)目為兩個，兩個所述驅(qū)動組件分別對應于所述第一支撐臺及所述第二支撐臺。

4.根據(jù)權利要求1所述的曝光機構，其特征在于，所述驅(qū)動組件包括滑軌、滑塊及伺服電機，所述滑軌固定于所述副支架上，所述滑塊一端與所述滑軌連接，所述滑塊與所述滑軌相對的另一端與對應的所述第一支撐臺或所述第二支撐臺固定，所述伺服電機與所述滑軌傳動連接。

5.根據(jù)權利要求1所述的曝光機構，其特征在于，所述曝光機構還包括兩組支撐塊，兩組所述支撐塊分別安裝在所述第一支撐臺及所述第二支撐臺相鄰于所述曝光平臺的表面邊緣處，用以支撐所述光罩。

6.根據(jù)權利要求1所述的曝光機構，其特征在于，所述曝光機構還包括兩組反翹曲件，兩個所述反翹曲件分別固定于所述第一支撐臺及所述第二支撐臺上，以分別下壓所述光罩兩端的邊緣處。

7.一種曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置包括：

權利要求1至6任意一項所述的曝光機構；以及

曝光平臺，所述曝光平臺設于所述第一支撐臺與所述第二支撐臺之間。

8.根據(jù)權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光平臺包括主平臺以及多個相互獨立的子平臺，所述主平臺與不同數(shù)目的所述子平臺拼裝以形成不同尺寸的所述曝光平臺。

9.一種曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光系統(tǒng)包括：

權利要求7或8所述的曝光裝置；以及

光罩，所述光罩橫跨于所述支撐組件，且所述光罩的兩端分別與所述第一支撐臺及所述第二支撐臺遠離所述支架的表面連接。

10.根據(jù)權利要求9所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光罩的尺寸與所述第一支撐臺及所述第二支撐臺之間的最大間距匹配。