[發明專利]掩膜板及其制作方法

有效

• 申請號: 201711297477.0
• 申請日: 2017-12-08
• 公開（公告）號: CN107994136B
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 周揚川;柯賢軍;吳俊雄;王浩銳;蘇君海;李建華
• 申請（專利權）人: 信利（惠州）智能顯示有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 葉劍

本發明涉及一種掩膜板及其制作方法，方法包括：制備具有像素定義層的襯底基板，像素定義層包括多個像素圖案；檢測襯底基板的像素定義層的各像素圖案的位置，獲得各像素圖案的第一坐標值，記錄第一坐標值；檢測放置于掩膜框架上的掩膜基板的圖案開口的位置，獲得各圖案開口的第二坐標值；根據第一坐標值對圖案開口的位置進行調整，使得第二坐標值與第一坐標值匹配。通過直接檢測襯底基板的像素圖案的位置，獲得襯底基板的像素圖案的坐標值，根據像素圖案的坐標值對掩膜基板的圖案開口的位置進行調整，使得掩膜基板與襯底基板之間的誤差更小，進而使得掩膜板精度更高，通過該掩膜板進行蒸鍍的效果更佳。

技術領域

本發明涉及有機發光顯示制造技術領域，特別是涉及掩膜板及其制作方法。

背景技術

近年來，OLED(Organic Light Emitting Diode，有機發光二極管)顯示器已經成為國內外非常熱門的新興平板顯示器產品，OLED顯示器具有自發光、廣視角、短反應時間、廣色域、低工作電壓、面板薄、易于做成柔性面板以及工作溫度范圍廣等優勢。

OLED器件的制備通常采用的真空蒸鍍法，將鍍料在真空中加熱并蒸發，使蒸發出來的原子或原子基團在溫度較低的襯底基板上析出并形成薄膜。蒸鍍工藝的穩定性對成膜質量的好壞有很大影響的。為了實現彩色化顯示，在蒸鍍工藝中要分別蒸鍍紅、綠、藍三基色對應的材料，常用的方法為掩膜法，即在襯底基板的前面設置一層很薄的金屬掩膜板，只在金屬掩膜板的開口處蒸鍍紅、綠、藍三基色對應的有機材料。而用來蒸鍍紅、綠、藍三基色對應的有機材料的位置(也即像素電極的位置)已經被精確的定義了出來，所以在蒸鍍工藝中金屬掩膜板上各掩模基板上的開口就要和像素電極位置對應吻合，不允許有超出誤差范圍之內的偏移，否則將會出現兩種發光材料重合在一起的情況，發生混色。

然而襯底基板玻璃在像素定義層的制程過程中，會因為曝光顯影工序等導致像素定義位置存在誤差Δ1，這個誤差Δ1是指制程后的實際位置與設計位置的偏差，而精密蒸鍍掩模基板在每次張拉時，每次的位置、張拉力度不同導致整體掩模板上的掩模基板并非是設計要求的排列，會存在偏差，由于這個偏差可能是不確定的，從而導致了誤差Δ2，誤差Δ2是指制作后開口的實際位置與設計位置的偏差，若誤差Δ1≈誤差Δ2，則該情況下是滿足生產要求的，但若Δ1＜0，而Δ2＞0，則該情況下的使用就容易導致誤差疊加，進而使得對應吻合度差，從而出現混色等顯示不良。在實際的掩膜板制作生產中，各種類型掩膜板的制作誤差Δ2是不可控的，與設備的精度，掩模基板的品質相關。不同像素設計的襯底基板玻璃上的像素定義位置誤差也是不可控的，導致精掩膜板與襯底基板的吻合度不一致。這種情況下，掩膜板的制作過程就相當困難。

發明內容

基于此，有必要提供一種掩膜板及其制作方法。

一種掩膜板的制作方法，包括：

制備具有像素定義層的襯底基板，所述像素定義層包括多個均勻分布的像素圖案；

檢測所述襯底基板的像素定義層的各所述像素圖案的位置，獲得各所述像素圖案的第一坐標值，記錄所述第一坐標值；

檢測放置于掩膜框架上的掩膜基板的圖案開口的位置，獲得各所述圖案開口的第二坐標值；

根據所述第一坐標值對所述圖案開口的位置進行調整，使得所述第二坐標值與所述第一坐標值匹配。

在其中一個實施例中，所述制備具有像素定義層的襯底基板的步驟包括：

制備具有所述像素定義層的所述襯底基板，并在所述襯底基板上的預設位置開設有多個襯底對位孔；

所述檢測所述襯底基板的像素定義層的各所述像素圖案的位置，獲得各所述像素圖案的第一坐標值的步驟包括：

檢測所述襯底基板的像素定義層的各所述像素圖案的位置，基于所述襯底對位孔的位置，獲得各所述像素圖案的第一坐標值。