[發(fā)明專利]一種濾光片的選取方法及裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201711293796.4
• 申請日: 2017-12-08
• 公開（公告）號: CN108114913B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發(fā)明（設計）人: 劉淼;姚毅
• 申請（專利權）人: 凌云光技術集團有限責任公司
• 主分類號: B07C5/342
• 分類號: B07C5/342;G01N21/31;G01M11/00
• 代理公司: 北京弘權知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 11363
• 代理人: 逯長明;許偉群

1.一種濾光片的選取方法，其特征在于，所述方法包括：

獲取成像芯片的芯片光譜特性曲線；

獲取理想光譜特性曲線；

采用歸一化算法，計算所述理想光譜特性曲線的歸一化光譜特性曲線；

根據(jù)所述芯片光譜特性曲線和所述歸一化光譜特性曲線，求解濾光片的透過率。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述獲取成像芯片的芯片光譜特性曲線之前，所述方法還包括：

獲取所述成像芯片的芯片光譜特性圖，所述芯片光譜特性圖為表征所述芯片光譜特性曲線的圖片。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述獲取成像芯片的芯片光譜特性曲線，包括：

根據(jù)預置選取規(guī)則，獲取所述芯片光譜特性圖的有效點坐標，所述有效點坐標為光譜曲線在所述芯片光譜特性圖中的相對位置；

查找所述有效點坐標對應的橫坐標值和縱坐標值，所述橫坐標值為波長，所述縱坐標值為單位光能量的所述波長的光波照射下所述成像芯片的響應；

根據(jù)所述橫坐標值和縱坐標值，生成所述芯片光譜特性曲線，所述芯片光譜特性曲線在可見光范圍內(nèi)籠統(tǒng)概括為紅光光譜曲線、綠光光譜曲線和藍光光譜曲線。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述采用歸一化算法，計算所述理想光譜特性曲線的歸一化光譜特性曲線之后，所述方法還包括：

建立關系模型，所述關系模型為所述芯片光譜特性曲線和所述透過率的乘積與所述歸一化光譜特性曲線相等。

5.如權利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述芯片光譜特性曲線和所述歸一化光譜特性曲線，求解濾光片的透過率，包括：

根據(jù)所述關系模型，計算所述濾光片的透過率。

6.一種濾光片的選取裝置，其特征在于，所述裝置包括：

獲取單元，用于獲取成像芯片的芯片光譜特性曲線；

獲取單元，還用于獲取理想光譜特性曲線；

計算單元，用于采用歸一化算法，計算所述理想光譜特性曲線的歸一化光譜特性曲線；

求解單元，用于根據(jù)所述芯片光譜特性曲線和所述歸一化光譜特性曲線，求解濾光片的透過率。

7.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述方法還包括：

所述獲取單元，還用于所述獲取成像芯片的芯片光譜特性曲線之前，獲取所述成像芯片的芯片光譜特性圖，所述芯片光譜特性圖為表征所述芯片光譜特性曲線的圖片。

8.如權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述獲取單元，包括：

獲取模塊，用于根據(jù)預置選取規(guī)則，獲取所述芯片光譜特性圖的有效點坐標，所述有效點坐標為光譜曲線在所述芯片光譜特性圖中的相對位置；

查找模塊，用于查找所述有效點坐標對應的橫坐標值和縱坐標值，所述橫坐標值為波長，所述縱坐標值為單位光能量的所述波長的光波照射下所述成像芯片的響應；

生成模塊，用于根據(jù)所述橫坐標值和縱坐標值，生成所述芯片光譜特性曲線，所述芯片光譜特性曲線在可見光范圍內(nèi)籠統(tǒng)概括為紅光光譜曲線、綠光光譜曲線和藍光光譜曲線。

9.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括：

建立單元，用于所述采用歸一化算法，計算所述理想光譜特性曲線的歸一化光譜特性曲線之后，建立關系模型，所述關系模型為所述芯片光譜特性曲線和所述透過率的乘積與所述歸一化光譜特性曲線相等。

10.如權利要求9所述的裝置，其特征在于，所述求解單元，還用于：

根據(jù)所述關系模型，計算所述濾光片的透過率。