[發(fā)明專利]氧固醇的多晶形式和其制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201711293638.9
• 申請日: 2017-12-08
• 公開（公告）號: CN108218941A
• 公開（公告）日: 2018-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: R·E·哈林頓;J·C·雅各布斯
• 申請（專利權(quán)）人: 華沙整形外科股份有限公司
• 主分類號: C07J9/00
• 分類號: C07J9/00;A61K31/575;A61P9/10;A61P29/00;A61P19/08
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 錢文宇;陳揚揚

1.一種OXY133多晶型物的固體形式，包含多晶型物形式C、多晶型物形式D、多晶型物形式E、多晶型物形式F、多晶型物形式G、多晶型物形式H、多晶型物形式I或其混合物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶型物，其中所述OXY133多晶型物是產(chǎn)生包含以下反射中的一個或多個的X射線粉末衍射圖的多晶型物形式C：13.2，13.3和15.96±0.2度2θ。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多晶型物，其中所述多晶型物形式C的X射線粉末衍射圖進(jìn)一步包含以下反射中的一個或多個：11.8，14.9和17.9±0.2度2θ。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶型物，其中所述OXY133多晶型物是產(chǎn)生包含以下反射中的一個或多個的X射線粉末衍射圖的多晶型物形式D：15.3，15.7和17.7±0.2度2θ。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的多晶型物，其中所述多晶型物形式D的X射線粉末衍射圖進(jìn)一步包含以下反射中的一個或多個：11.9，13.2和18.0±0.2度2θ。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶型物，其中所述OXY133多晶型物是產(chǎn)生包含以下反射中的一個或多個的X射線粉末衍射圖的多晶型物形式E：5.9，10.2和14.96±0.2度2θ。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多晶型物，其中所述多晶型物形式E的X射線粉末衍射圖進(jìn)一步包含以下反射中的一個或多個：11.79，11.84和17.9±0.2度2θ。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶型物，其中所述OXY133多晶型物是產(chǎn)生包含以下反射中的一個或多個的X射線粉末衍射圖的多晶型物形式F：5.86，13.38和20.01±0.2度2θ。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的多晶型物，其中所述多晶型物形式F的X射線粉末衍射圖進(jìn)一步包含以下反射中的一個或多個：11.85，14.93和17.91±0.2度2θ。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶型物，其中所述OXY133多晶型物是產(chǎn)生包含以下反射中的一個或多個的X射線粉末衍射圖的多晶型物形式G：15.0，16.0和18.8±0.2度2θ。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的多晶型物，其中所述多晶型物形式G的X射線粉末衍射圖進(jìn)一步包含以下反射中的一個或多個：5.9，11.9和17.96±0.2度2θ。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶型物，其中所述OXY133多晶型物是產(chǎn)生包含以下反射中的一個或多個的X射線粉末衍射圖的多晶型物形式H：7.87，16.32和18.90±0.2度2θ。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的多晶型物，其中所述多晶型物形式H的X射線粉末衍射圖進(jìn)一步包含以下反射中的一個或多個：9.92，15.00和16.72±0.2度2θ。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多晶型物，其中所述OXY133多晶型物是產(chǎn)生包含以下反射中的一個或多個的X射線粉末衍射圖的多晶型物形式I：13.19，13.42和14.98±0.2度2θ。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的多晶型物，其中所述多晶型物形式I的X射線粉末衍射圖進(jìn)一步包含以下反射中的一個或多個：5.91，11.92和17.97±0.2度2θ。

16.一種用于制備OXY133多晶型物的方法，所述方法包含使OXY133的漿料經(jīng)受足以將OXY133轉(zhuǎn)化為OXY133多晶型物的條件，其中所述OXY133多晶型物包含多晶型物形式C、多晶型物形式D、多晶型物形式E、多晶型物形式F、多晶型物形式G、多晶型物形式H、多晶型物形式I或其混合物。