[發明專利]一種用于PECVD設備的進氣混合裝置在審
| 申請號: | 201711286753.3 | 申請日: | 2017-12-07 |
| 公開(公告)號: | CN107841729A | 公開(公告)日: | 2018-03-27 |
| 發明(設計)人: | 李致文;余仲;張勇 | 申請(專利權)人: | 深圳市捷佳偉創新能源裝備股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/50 | 分類號: | C23C16/50;C23C16/455 |
| 代理公司: | 深圳市康弘知識產權代理有限公司44247 | 代理人: | 尹彥,胡朝陽 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市龍崗區橫崗*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 pecvd 設備 混合 裝置 | ||
1.一種用于PECVD設備的進氣混合裝置,包括第一進氣引管、第二進氣引管和出氣口,其特征在于,還包括一分別與所述第一進氣引管、所述第二進氣引管和出氣口連通的混氣盒,所述混氣盒內設有迷宮式的混氣通道。
2.如權利要求1所述的用于PECVD設備的進氣混合裝置,其特征在于,所述混氣盒包括一座體,其相對的側邊設有多個向內伸出、相互錯開且與對面側邊隔開的擋板,和一與所述座體密封連接形成混氣通道的蓋板;所述第一進氣引管和第二進氣引管設置在所述混氣盒的一端,所述出氣口設置在所述混氣盒的另一端。
3.如權利要求1所述的用于PECVD設備的進氣混合裝置,其特征在于,所述混氣盒包括第一混氣盒和第二混氣盒,第一混氣盒和第二混氣盒的座體相互層疊固定在一起,所述第一混氣盒的混氣通道出口與所述第二混氣盒的混氣通道進口連通,第一進氣引管、第二進氣引管與出氣口設置在同一端。
4.如權利要求1所述的用于PECVD設備的進氣混合裝置,其特征在于,所述出氣口為并排設置的多個出氣孔。
5.如權利要求3所述的用于PECVD設備的進氣混合裝置,其特征在于,所述第一混氣盒上設有可安裝螺釘與PECVD反應室內壁固定的通孔。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





