[發(fā)明專(zhuān)利]用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái)及其工作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201711279770.4 | 申請(qǐng)日: | 2017-12-06 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108054119B | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 歐甜;蘇長(zhǎng)義 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 深圳市德力知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44265 | 代理人: | 林才桂;劉巍 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 剝離 工藝 機(jī)臺(tái) 及其 工作 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái)及其工作方法。該用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái)包括:多級(jí)順序排列的多個(gè)腔室、與所述多個(gè)腔室對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱、與所述多個(gè)存儲(chǔ)箱對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)過(guò)濾器,所述過(guò)濾器還與下一級(jí)腔室連接,所述存儲(chǔ)箱內(nèi)設(shè)有離心過(guò)濾裝置。本發(fā)明還提供了相應(yīng)的工作方法。本發(fā)明用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái)及其工作方法設(shè)計(jì)了一種適用于剝離工藝的改進(jìn)的剝離液機(jī)臺(tái)及工作方法,解決剝離制程傳統(tǒng)剝離液機(jī)臺(tái)過(guò)濾器的堵塞問(wèn)題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái)及其工作方法。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體工藝的領(lǐng)域之中,光刻工藝已經(jīng)是制作過(guò)程中不可或缺的步驟之一;如業(yè)界所公知的,光刻過(guò)程包括下列的幾個(gè)步驟:在基板上方涂布光阻,利用光罩對(duì)基板上的光阻進(jìn)行曝光以定義電子產(chǎn)品對(duì)應(yīng)的電路圖案(circuit pattern),如此才能夠?qū)庾柘碌幕暹M(jìn)行接下來(lái)的蝕刻過(guò)程,以形成所需的電路圖案;當(dāng)然,一個(gè)電子產(chǎn)品的完成,必須重復(fù)執(zhí)行數(shù)次上述的步驟,以TFT LCD陣列基板作為例子來(lái)說(shuō),就需要通過(guò)多道光罩來(lái)進(jìn)行光刻以形成層疊結(jié)構(gòu)。當(dāng)前常用的TFT LCD陣列設(shè)計(jì)中,就有五道光罩必須進(jìn)行光刻,來(lái)分別完成柵極層(gate electrode,GE),半導(dǎo)體層(semiconductor,SE),源極/漏極層(sourcedrain,SD),接觸孔(contact hole,CH),像素電極層(pixel electrode,PE)五個(gè)不同層的電路圖案。
剝離(Lift-off)工藝通常用于TFT(薄膜晶體管)制程中的光罩縮減,Lift-off制程先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時(shí),沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過(guò)該制程可以實(shí)現(xiàn)兩次光刻合并為一次以達(dá)到光罩縮減的目的。
然而,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ITO(氧化銦錫)等用于制備TFT的膜層),在剝離光阻的同時(shí)薄膜碎屑被帶入剝離液(Stripper)中,大量的薄膜碎屑將會(huì)導(dǎo)致剝離液機(jī)臺(tái)中的過(guò)濾器(filter)堵塞,從而導(dǎo)致機(jī)臺(tái)無(wú)法使用。
參見(jiàn)圖1,其為現(xiàn)有剝離液機(jī)臺(tái)的模塊示意圖,主要包括n級(jí)順序排列的腔室(chamber)1,即腔室_1~腔室_n,各級(jí)腔室1分別設(shè)有相應(yīng)的存儲(chǔ)箱(tank)2,即存儲(chǔ)箱_1~存儲(chǔ)箱_n以及過(guò)濾器3,腔室1、存儲(chǔ)箱2和過(guò)濾器3中的箭頭表示剝離液流動(dòng)方向;各腔室1設(shè)計(jì)為適合進(jìn)行剝離制程,用于向制程中的玻璃基板供給剝離液,具體結(jié)構(gòu)在此不再贅述。
處于剝離制程中的玻璃基板,按照玻璃基板傳送方向從腔室_1開(kāi)始逐級(jí)由各腔室1向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從腔室_1進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱_1,再經(jīng)過(guò)相應(yīng)的第一個(gè)過(guò)濾器3過(guò)濾后進(jìn)入第二級(jí)的腔室_2,再經(jīng)過(guò)第二個(gè)過(guò)濾器3后進(jìn)入第三級(jí)的腔室_3……。
現(xiàn)有的剝離液機(jī)臺(tái)在進(jìn)行剝離工藝時(shí),因剝離液中含有大量大面積薄膜碎屑4而容易導(dǎo)致第一、二級(jí)腔室1的過(guò)濾器3堵塞嚴(yán)重,使得機(jī)臺(tái)無(wú)法使用。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的在于提供一種用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái),解決剝離制程中過(guò)濾器堵塞的問(wèn)題。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法,解決剝離制程中過(guò)濾器堵塞的問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供了一種用于剝離工藝的剝離液機(jī)臺(tái),包括:多級(jí)順序排列的多個(gè)腔室、與所述多個(gè)腔室對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)存儲(chǔ)箱、與所述多個(gè)存儲(chǔ)箱對(duì)應(yīng)連接的多個(gè)過(guò)濾器,所述過(guò)濾器還與下一級(jí)腔室連接,所述存儲(chǔ)箱內(nèi)設(shè)有離心過(guò)濾裝置,其中:
所述多個(gè)腔室用于按照處于剝離制程的玻璃基板的傳送方向逐級(jí)向玻璃基板提供剝離液;
所述存儲(chǔ)箱用于收集和存儲(chǔ)來(lái)自腔室的經(jīng)歷剝離制程的剝離液;
所述過(guò)濾器用于過(guò)濾來(lái)自存儲(chǔ)箱的剝離液并且輸送給下一級(jí)腔室;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





