[發明專利]一種鎂銀合金清洗劑及清洗方法

有效

• 申請號: 201711273915.X
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN109881204B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 康威;鄢艷華;周興邦
• 申請（專利權）人: 深圳新宙邦科技股份有限公司
• 主分類號: C23G1/12
• 分類號: C23G1/12;C23C14/02
• 代理公司: 深圳卓正專利代理事務所(普通合伙) 44388
• 代理人: 王平

本發明的目的是成本低廉、能高效、徹底的溶解清洗鎂銀合金但不對金屬基底產生損傷的清洗劑。該鎂銀合金清洗劑包括3～10wt％的主氧化劑、5～15wt％的輔助氧化劑、1～10wt％的pH緩沖劑、0.3～1.0wt％的防腐劑和余量的水；所述主氧化劑選自硝酸、過氧化氫、高氯酸中的一種或多種；所述輔助氧化劑選自磷酸、硫酸中的一種或多種；所述防腐劑選自蔗糖、山梨糖醇、糊精、聯吡啶中的一種或多種。同時，本發明還提供了采用該清洗劑進行清洗的方法。本發明提供的鎂銀合金清洗劑成本低廉、能高效、徹底的溶解清洗鎂銀合金但不對金屬基底產生損傷。

技術領域

本發明涉及一種鎂銀合金清洗劑，尤其是一種用于有機發光二極管(OLED)蒸鍍Fine Metal Shadow Mask上沉積的陰極材料用鎂銀合金清洗劑，以及采用該清洗劑對金屬基底進行清洗的方法。

背景技術

在OLED面板制作陰極材料蒸鍍工藝中需要用到昂貴的高精度金屬掩模板(FineMetal Shadow Mask)，而蒸鍍完成后，通常會有金屬材料(主要是常用的陰極材料，例如鎂銀合金)沉積在Mask上，為了提高其使用壽命，需要對沉積的金屬材料進行清洗。

目前，常用用于清洗上述金屬材料的清洗劑易產生殘留、效率低，或者易損傷金屬基底，并且價格高。隨著全球對OLED屏幕需求的激增及國內OLED產業的壯大，鎂銀清洗劑具有很大的增長空間。

發明內容

本發明的目的是成本低廉、能高效、徹底的溶解清洗鎂銀合金但不對金屬基底產生損傷的清洗劑。

本發明解決上述技術問題所采用的技術方案如下：

提供一種鎂銀合金清洗劑，包括3～10wt％的主氧化劑、5～15wt％的輔助氧化劑、1～10wt％的pH緩沖劑、0.3～1.0wt％的防腐劑和余量的水；所述主氧化劑選自硝酸、過氧化氫、高氯酸中的一種或多種；所述輔助氧化劑選自磷酸、硫酸中的一種或多種；所述防腐劑選自蔗糖、山梨糖醇、糊精、聯吡啶中的一種或多種。

同時，本發明還提供了一種清洗方法，包括采用上述的鎂銀合金清洗劑對附著有鎂銀合金的金屬基底進行清洗。

本發明提供的鎂銀合金清洗劑可高效的將Fine Metal Shadow Mask金屬基底(通常為因瓦合金或鐵鉻合金)上的鎂銀合金清洗掉，不產生殘留，同時不會損傷金屬基底，并且，該鎂銀合金清洗劑成本低廉。

具體實施方式

為了使本發明所解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

本發明提供的鎂銀合金清洗劑包括3～10wt％的主氧化劑、5～15wt％的輔助氧化劑、1～10wt％的pH緩沖劑、0.3～1.0wt％的防腐劑和余量的水；所述主氧化劑選自硝酸、過氧化氫、高氯酸中的一種或多種；所述輔助氧化劑選自磷酸、硫酸中的一種或多種；所述防腐劑選自蔗糖、山梨糖醇、糊精、聯吡啶中的一種或多種。

所述主氧化劑選自硝酸、過氧化氫、高氯酸中的一種或多種；所述輔助氧化劑選自磷酸、硫酸中的一種或多種。本發明中，上述主氧化劑與輔助氧化劑配合，共同作用，用于對鎂銀合金進行腐蝕清洗。

但是，由于金屬基底為金屬，極易在清洗鎂銀合金過程中被腐蝕，因此，主氧化劑和輔助氧化劑的含量需嚴格控制，本發明中，所述主氧化劑的含量為3～10wt％，所述輔助氧化劑的含量為5～15wt％。優選情況下，所述主氧化劑的含量為4～7wt％，所述輔助氧化劑的含量為8～12wt％。