[發(fā)明專利]一種納米晶純銅藥型罩?jǐn)D壓成形晶粒長大抑制方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711272652.0 | 申請日： | 2017-12-05 |
| 公開（公告）號： | CN107999553B | 公開（公告）日： | 2019-06-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 趙強;舒大禹;陳強;康鳳;胡傳凱;趙祖德;王艷彬 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國兵器工業(yè)第五九研究所 |
| 主分類號： | B21C23/14 | 分類號： | B21C23/14;B21C31/00;B21C29/04;C22F1/08;C21D9/00 |
| 代理公司： | 重慶弘旭專利代理有限責(zé)任公司 50209 | 代理人： | 文巍 |
| 地址： | 400039 重*** | 國省代碼： | 重慶;50 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 納米 晶純銅藥型罩 擠壓 成形 晶粒 長大 抑制 方法 | ||
1.一種納米晶純銅藥型罩制備方法，其特征在于：將納米晶純銅坯料進(jìn)行連續(xù)5次擠壓；所述擠壓中第一次擠壓速率為10～15cm/min，變形程度15%～35%；第二次擠壓，擠壓速率為8～12cm/min，變形程度10%～30%；第三次擠壓速率為6～10cm/min，變形程度5%～20%；第四次擠壓速率為3～6cm/min，變形程度3%～10%；第五次擠壓速率為1～3cm/min，變形程度1%～3%。
2.如權(quán)利要求1所述的納米晶純銅藥型罩制備方法，擠壓前對模具進(jìn)行液氮冷卻1～3小時，液氮壓力0.4～1.2MPa。
3.如權(quán)利要求1或2所述的納米晶純銅藥型罩制備方法，第五次擠壓后對坯件進(jìn)行液氮冷卻反淬火處理，冷卻時間2～4小時。
4.如權(quán)利要求3所述的納米晶純銅藥型罩制備方法，第五次擠壓并冷卻后進(jìn)行精整形，變形程度0.5%～2%。
5.如權(quán)利要求1所述的納米晶純銅藥型罩制備方法，按照以下步驟進(jìn)行：
（1）采用藥型罩?jǐn)D壓成形裝置，根據(jù)藥型罩產(chǎn)品尺寸與體積，以及納米晶純銅坯料變形極限達(dá)到75%，確定擠壓前的納米晶純銅坯料尺寸φ40～φ60mm，進(jìn)行備料；
（2）液氮冷卻藥型罩?jǐn)D壓成形裝置1～3小時，液氮壓力0.4～1.2MPa；
（3）在納米晶純銅坯料、擠壓成形裝置表面涂抹潤滑劑，將納米晶純銅坯料放入擠壓成形裝置進(jìn)行一次擠壓，擠壓速率為10～15cm/min，變形程度15%～30%；
（4）對一次擠壓坯件、擠壓成形裝置表面進(jìn)行清理，重新涂抹潤滑劑，進(jìn)行二次擠壓，擠壓速率為8～12cm/min，變形程度10%～20%；
（5）對二次擠壓坯件、擠壓成形裝置表面進(jìn)行清理，重新涂抹潤滑劑，進(jìn)行三次擠壓，擠壓速率為6～10cm/min，變形程度5%～10%；
（6）對三次擠壓坯件、擠壓成形裝置表面進(jìn)行清理，重新涂抹潤滑劑，進(jìn)行四次擠壓，擠壓速率為3～6cm/min，變形程度3%～5%；
（7）對四次擠壓坯件、擠壓成形裝置表面進(jìn)行清理，重新涂抹潤滑劑，進(jìn)行五次擠壓，擠壓速率為1～3cm/min，變形程度1%～3%；
（8）對五次擠壓坯件進(jìn)行表面清理與除油，放入密封保溫裝置中進(jìn)行液氮冷卻反淬火處理，釋放、均化應(yīng)力分布，冷卻時間2～4小時；
（9）對擠壓成形裝置表面進(jìn)行除油處理，再將步驟（8）中坯件放入進(jìn)行精整形，變形程度0.5%～2%。
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