[發明專利]一種近距適形內照射支架及其制造方法

在審

• 申請號: 201711270952.5
• 申請日: 2017-12-06
• 公開（公告）號: CN108042904A
• 公開（公告）日: 2018-05-18
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 沈陽
• 主分類號: A61M36/12
• 分類號: A61M36/12
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種近距適形內照射支架，其特征在于：所述近距適形內照射支架包括支架載體和局部加強放射性同位素高分子醫用薄膜，支架載體為金屬支架載體或復合金屬支架載體，復合金屬支架載體上覆蓋有醫用聚胺酯或醫用硅橡膠，所述醫用薄膜至少部分包覆于支架載體外周面，所述醫用薄膜至少包括一層，所述醫用薄膜包括第一薄膜層，第一薄膜層厚度均勻，位于支架載體外側，第一薄膜層至少部分覆蓋支架載體的外側面積，所述醫用薄膜層還包括第二薄膜層，第二薄膜層位于第一薄膜層外側，第二薄膜層至少部分覆蓋第一薄膜層外側面積。

2.根據權利要求1所述近距適形內照射支架，其特征在于：其中所述的支架載體具有激光雕刻花紋或手工編織花紋，支架載體為鈦基合金金屬、鈷基合金金屬、鉑芯鎳鈦合金多層合金金屬或316L不銹鋼。

3.根據權利要求1所述近距適形內照射支架，其特征在于：其中所述局部加強放射性同位素高分子醫用薄膜放射活度約為3.7×107Bq-7.4×108Bq(1mCi-20mCi)，活度范圍根據患者的腫瘤體積及形態制訂相應的治療計劃進行選擇。

4.根據權利要求1所述近距適形內照射支架，其特征在于：其中所述局部加強放射性同位素高分子醫用薄膜由醫用聚碳酸酯熱塑性聚氨酯或SILBIONE醫用硅橡膠制造。

5.根據權利要求1所述的新型近距適形內照射支架，其特征在于：其中所述局部加強放射性同位素高分子醫用薄膜中的放射性同位素由液態或固態的125I構成。

6.根據權利要求1所述的新型近距適形內照射支架，其特征在于：其中第一薄膜層具有至少兩個不連續分布的第一薄膜分布區域包覆于支架載體外側。

7.根據權利要求1所述的新型近距適形內照射支架，其特征在于：其中第二薄膜層具有至少兩個不連續分布的第二薄膜分布區域包覆于第二薄膜層外側。

8.根據權利要求8所述的新型近距適形內照射支架，其特征在于：所述至少兩個不連續分布的第二薄膜分布區域分布于相同或不同的所述第一薄膜分布區域。

9.一種如所述權利要求1-9任一一種所述的近距適形內照射支架的制作方法，其特征在于：制造步驟如下，

S1：制造支架載體；

S2：制造醫用薄膜；

S3：將醫用薄膜覆蓋于支架載體上；

S4：檢查檢測，待檢查檢測后封裝入庫。