[發明專利]法珀傳感器及其制造方法

有效

• 申請號: 201711269044.4
• 申請日: 2017-12-05
• 公開（公告）號: CN109870255B
• 公開（公告）日: 2023-09-12
• 發明（設計）人: 張立喆;林春
• 申請（專利權）人: 北京佰為深科技發展有限公司
• 主分類號: G01L1/24
• 分類號: G01L1/24
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳钘;陳茜

1.一種法珀傳感器，包括：

基部；

腔體，形成在所述基部和壓力敏感膜片之間，且由基部和壓力敏感膜片封閉；

所述壓力敏感膜片，固定到所述基部，其中，所述壓力敏感膜片具有一個或多個局部區域，每一個局部區域具有摻雜到壓力敏感膜片的基礎材料中以產生應力的摻雜物質，任一局部區域不貫穿壓力敏感膜片的整個厚度，所述壓力敏感膜片在所述應力的作用下呈現波狀構造；

光纖，用于傳導光信號，所述光纖的一個端部固定到基部的光纖安裝部，所述光纖安裝部位于基部的、與所述腔體相對的端部處。

2.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述壓力敏感膜片為一體的單層結構。

3.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述壓力敏感膜片的厚度為1μm至5μm。

4.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述基部的厚度為200μm至500μm。

5.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述腔體的直徑為80μm至300μm。

6.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述應力為拉應力。

7.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述應力為壓應力。

8.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述一個或多個局部區域包括位于壓力敏感膜片中心位置處的大致圓形區域。

9.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述一個或多個局部區域包括圍繞壓力敏感膜片中心位置的大致環形區域。

10.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述局部區域位于壓力敏感膜片的靠近腔體的局部厚度中。

11.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述局部區域位于壓力敏感膜片的遠離腔體的局部厚度中。

12.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，在不同的局部區域摻雜有不同的摻雜物質。

13.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，在同一局部區域摻雜有不同的摻雜物質。

14.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述壓力敏感膜片的所述基礎材料為硅。

15.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述摻雜物質為以下材料中的一種或多種：P、B、As、Al、Ga、Sb、Ge、O、Au、Fe、Cu、Ni、Zn、Mg。

16.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述光纖通過UV膠固定到光纖接收部。

17.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述法珀傳感器還包括第一反射膜和第二反射膜，所述第一反射膜位于壓力敏感膜片的一側上，且第二反射膜位于所述腔體的底部。

18.如前一權利要求所述的法珀傳感器，其中，形成所述第一反射膜和第二反射膜的材料為以下至少之一：Cr、Ti、Au、Ag、TaN、Al₂O₃、Ta₂O₅。

19.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述形成基部的材料為以下至少之一：玻璃、單晶硅、碳化硅、藍寶石。

20.如權利要求1所述的法珀傳感器，其中，所述腔體為真空腔。