[發(fā)明專利]半導(dǎo)體裝置、生成半導(dǎo)體裝置布局的方法與非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀媒體

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711268385.X
• 申請(qǐng)日: 2017-12-05
• 公開（公告）號(hào): CN108933175B
• 公開（公告）日: 2023-03-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳郁仁;李文熙;王琳松;黃一珊;洪展羽
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L29/78
• 分類號(hào): H01L29/78;H01L29/423;G06F30/392
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó)

一種半導(dǎo)體裝置包括：主動(dòng)區(qū)域，其排列在與第一方向平行的第一柵格中；及柵電極，其間隔排列在第二柵格中且覆蓋對(duì)應(yīng)的一主動(dòng)區(qū)域，第二柵格與第二方向平行，第二方向與第一方向正交。第一縫隙散布在相鄰的主動(dòng)區(qū)域之間。于對(duì)應(yīng)柵電極橫跨對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域及柵電極未功能地連接至對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域的天橋交叉點(diǎn)，柵電極大體上未延伸超過(guò)對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域且因此大體上未延伸至對(duì)應(yīng)縫隙中。生成半導(dǎo)體裝置布局的方法與生成半導(dǎo)體裝置布局的非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀媒體亦在此揭露。

技術(shù)領(lǐng)域

本揭示內(nèi)容是關(guān)于一種半導(dǎo)體裝置與產(chǎn)生布局的方法，特別是關(guān)于一種具柵電極的半導(dǎo)體裝置與一種可將布局儲(chǔ)存在非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀媒體上的布局產(chǎn)生方法。

背景技術(shù)

集成電路(integrated circuit；“IC”)包括一或多個(gè)半導(dǎo)體裝置。隨著半導(dǎo)體裝置的電子裝置/元件尺寸減小，此種電子裝置/元件之間的間距大小相應(yīng)地減小。隨著此種間距減小，鄰近元件之間的漏電流的電阻亦減小。

表示半導(dǎo)體裝置的一種方式為稱為布局圖的平面圖。布局圖的設(shè)計(jì)者通過(guò)尤其考慮此類電子裝置/元件之間可達(dá)成的分隔距離而配置布局圖。

發(fā)明內(nèi)容

本揭示內(nèi)容的實(shí)施方式是關(guān)于一種半導(dǎo)體裝置，其包含主動(dòng)區(qū)域、柵電極、第一縫隙及天橋交叉點(diǎn)。上述的主動(dòng)區(qū)域排列在與第一方向平行的第一柵極中。柵電極間隔排列在第二柵極中且覆蓋對(duì)應(yīng)的主動(dòng)區(qū)域，第二柵極與第二方向平行，第二方向與第一方向正交。第一縫隙散布在相鄰該主動(dòng)區(qū)域之間。其中，于對(duì)應(yīng)柵電極橫跨對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域及柵電極不含功能地連接至對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域的天橋交叉點(diǎn)，柵電極大體上未延伸超過(guò)對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域并因此大體上未延伸至多個(gè)第一縫隙的一對(duì)應(yīng)縫隙中。

本揭示內(nèi)容的另一實(shí)施方式是關(guān)于一種生成半導(dǎo)體裝置的一布局的一方法，其特征在于，該布局儲(chǔ)存在一非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀媒體上，該 方法包括以下操作。生成排列在與一第一方向平行的一第一柵格中的多個(gè)主動(dòng)區(qū)域圖案；生成在一第二柵格中間隔排列且覆蓋對(duì)應(yīng)的多個(gè)主動(dòng)區(qū)域圖案的多個(gè)柵極圖案，該第二柵格與該第二方向平行，該第二方向與該第一方向正交；其中散布在相鄰的多個(gè)主動(dòng)區(qū)域圖案之間的多個(gè)縫隙是通過(guò)該多個(gè)柵極圖案的對(duì)應(yīng)多個(gè)縫隙內(nèi)部分覆蓋，每個(gè)縫隙內(nèi)部分包括由一中央?yún)^(qū)域分割的兩個(gè)端區(qū)域；生成多個(gè)第一切割圖案，該多個(gè)第一切割圖案覆蓋該多個(gè)縫隙內(nèi)部分的多個(gè)第一選擇部分的多個(gè)中央?yún)^(qū)域；生成多個(gè)第二切割圖案，該多個(gè)第二切割圖案覆蓋鄰接多個(gè)天橋交叉點(diǎn)的該多個(gè)縫隙內(nèi)部分的多個(gè)第二選擇部分的多個(gè)端區(qū)域，進(jìn)而修正對(duì)應(yīng)多個(gè)柵極圖案；其中該多個(gè)第一切割圖案及該多個(gè)第二切割圖案指示將隨后去除對(duì)應(yīng)的多個(gè)底層中央?yún)^(qū)域及多個(gè)端區(qū)域；該多個(gè)天橋交叉點(diǎn)的每一者為一交叉點(diǎn)的一實(shí)例，于一對(duì)應(yīng)柵極圖案橫跨一對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域圖案，以及由該對(duì)應(yīng)柵極圖案產(chǎn)生的一柵電極將未功能地連接至產(chǎn)生自該對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域圖案的一主動(dòng)區(qū)域；生成多個(gè)主動(dòng)區(qū)域圖案、生成多個(gè)柵極圖案、生成多個(gè)第一切割圖案或生成多個(gè)第二切割圖案中至少一者是通過(guò)一計(jì)算機(jī)的一處理器執(zhí)行。

本揭示內(nèi)容的另一實(shí)施方式是關(guān)于一種包含用于執(zhí)行生成一半導(dǎo)體裝置的一布局的一方法的多個(gè)計(jì)算機(jī)可執(zhí)行指令的一非暫態(tài)計(jì)算機(jī)可讀媒體，其特征在于，該方法包括以下操作。生成排列在與一第一方向平行的一第一柵格中的多個(gè)主動(dòng)區(qū)域圖案；生成在一第二柵格中間隔排列且覆蓋對(duì)應(yīng)的多個(gè)主動(dòng)區(qū)域圖案的多個(gè)柵極圖案，該第二柵格與一第二方向平行，該第二方向與該第一方向正交；其中散布在相鄰的多個(gè)主動(dòng)區(qū)域圖案之間的多個(gè)縫隙是通過(guò)該多個(gè)柵極圖案的對(duì)應(yīng)多個(gè)縫隙內(nèi)部分覆蓋，每個(gè)縫隙內(nèi)部分包括由一中央?yún)^(qū)域分割的兩個(gè)端區(qū)域；生成多個(gè)第一切割圖案，該多個(gè)第一切割圖案覆蓋該多個(gè)縫隙內(nèi)部分的多個(gè)第一選擇部分的多個(gè)中央?yún)^(qū)域；生成多個(gè)第二切割圖案，該多個(gè)第二切割圖案覆蓋鄰接多個(gè)天橋交叉點(diǎn)的該多個(gè)縫隙內(nèi)部分的多個(gè)第二選擇部分的多個(gè)端區(qū)域，進(jìn)而修正對(duì)應(yīng)多個(gè)柵極圖案；其中該多個(gè)第一切割圖案及該多個(gè)第二切割圖案指示將隨后去除對(duì)應(yīng)的多個(gè)底層中央?yún)^(qū)域及多個(gè)端區(qū)域；該多個(gè)天橋交叉點(diǎn)的每一者為一交叉點(diǎn)的一實(shí)例，于一對(duì)應(yīng)柵極圖案橫跨一對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域圖案，以及由該對(duì)應(yīng)柵極圖案產(chǎn)生的一柵電極將未功能地連接至產(chǎn)生自該對(duì)應(yīng)主動(dòng)區(qū)域圖案的一主動(dòng)區(qū)域。