[發(fā)明專利]一種六面體光導(dǎo)塊光學(xué)器件的加工方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711267300.6
• 申請(qǐng)日: 2017-12-05
• 公開（公告）號(hào): CN108081034A
• 公開（公告）日: 2018-05-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐斌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇師范大學(xué)
• 主分類號(hào): B24B1/00
• 分類號(hào): B24B1/00
• 代理公司: 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200
• 代理人: 樓高潮

1.一種六面體光導(dǎo)塊光學(xué)器件的加工方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：(1)將導(dǎo)光塊放在雙面研磨機(jī)上，同時(shí)對(duì)兩個(gè)大面進(jìn)行預(yù)研磨；將已完成預(yù)研磨的導(dǎo)光塊清洗干凈后放在雙面拋光機(jī)上，同時(shí)對(duì)兩個(gè)大面進(jìn)行拋光；

(2)將已完成拋光的導(dǎo)光塊兩個(gè)大面分別涂上保護(hù)漆，在加熱平臺(tái)上用直角靠體把一定數(shù)量的已涂保護(hù)漆導(dǎo)光塊用蠟粘成一大長(zhǎng)方體；

(3)將粘好的導(dǎo)光塊長(zhǎng)方體放在雙面研磨機(jī)上，同時(shí)對(duì)導(dǎo)光塊長(zhǎng)方體的兩個(gè)側(cè)面進(jìn)行預(yù)研磨；將已完成預(yù)研磨的導(dǎo)光塊長(zhǎng)方體清洗干凈后放在雙面拋光機(jī)上，同時(shí)對(duì)兩個(gè)側(cè)面進(jìn)行拋光；

(4)將已完成拋光的導(dǎo)光塊長(zhǎng)方體的兩個(gè)側(cè)面分別涂上保護(hù)漆，并貼上橡皮膏，然后放在雙面研磨機(jī)上，同時(shí)對(duì)導(dǎo)光塊長(zhǎng)方體的另外兩個(gè)側(cè)面進(jìn)行預(yù)研磨；將已完成預(yù)研磨的導(dǎo)光塊長(zhǎng)方體清洗干凈后放在雙面拋光機(jī)上，同時(shí)對(duì)兩個(gè)側(cè)面進(jìn)行拋光；

(5)加工完畢，將導(dǎo)光塊長(zhǎng)方體下盤，清洗，送檢。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的六面體光導(dǎo)塊光學(xué)器件的加工方法，其特征在于，所述雙面研磨機(jī)、雙面拋光機(jī)均包括游星輪夾具(7)，所述游星輪夾具(7)為圓形盤狀體，其外圓周面上有等齒距的環(huán)齒圈(8)；所述游星輪夾具(7)內(nèi)部設(shè)置有1個(gè)矩形夾具孔(9)，夾具孔(9)偏離游星輪夾具(7)中心10mm，夾具孔(9)的四個(gè)端角均開有弧度。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的六面體光導(dǎo)塊光學(xué)器件的加工方法，其特征在于，雙面研磨機(jī)采用的研磨盤為鑄鐵盤，轉(zhuǎn)速為40～50rpm，磨料采用W10碳化硼或W10綠碳化硅。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的六面體光導(dǎo)塊光學(xué)器件的加工方法，其特征在于，所述雙面拋光機(jī)采用的拋光盤為聚氨酯拋光盤，轉(zhuǎn)速為40～50rpm，拋光粉采用W1氧化鋁粉或W1氧化鈰拋光粉。