[發明專利]一種濕法刻蝕的上料裝置

在審

• 申請號: 201711267254.X
• 申請日: 2017-12-05
• 公開（公告）號: CN107919307A
• 公開（公告）日: 2018-04-17
• 發明（設計）人: 林建偉;何大娟;劉志鋒;季根華;劉勇
• 申請（專利權）人: 泰州中來光電科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677;H01L31/18
• 代理公司: 北京金之橋知識產權代理有限公司11137
• 代理人: 林建軍

1.一種濕法刻蝕的上料裝置，包括上料主機臺、反應槽、滾輪、儲液槽，其特征在于：所述反應槽設置在所述上料主機臺上，所述滾輪設置在所述反應槽的頂部，所述反應槽里放置有腐蝕液，所述反應槽中的腐蝕液的液面高于所述滾輪的底部，所述儲液槽中的化學品和水通過循環泵輸送至所述反應槽，所述儲液槽上設置有化學品配液添加系統和水配液添加系統。

2.根據權利要求1所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述儲液槽中還設置有化學品自動補給系統和水自動補給系統。

3.根據權利要求1或2所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述滾輪為螺紋帶液滾輪或海綿帶液滾輪，所述滾輪帶有定向功能。

4.根據權利要求3所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：硅片通過所述滾輪之間的輥道水平輸送，所述硅片的前部剛進入到反應槽中時，所述硅片的頭部邊緣略微接觸反應槽中的腐蝕液的液面，以使得所述腐蝕液在硅片下表面形成薄膜。

5.根據權利要求1或2所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述濕法刻蝕的上料裝置還包括獨立的循環系統和抽風系統。

6.根據權利要求5所述的一種濕法刻蝕的上料裝置，其特征在于：所述反應槽的材質為聚丙烯，其長度為400-1000nm。