[發(fā)明專利]一種陣列基板、觸控顯示面板和觸控顯示面板驅(qū)動方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711266605.5 | 申請日: | 2017-12-05 |
| 公開(公告)號: | CN107908034B | 公開(公告)日: | 2020-05-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 郭珂;王偉鵬;楊康鵬;許育民;吳常志;孫瑩 | 申請(專利權)人: | 武漢天馬微電子有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1343;G06F3/041;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李婷婷;王寶筠 |
| 地址: | 430040 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 陣列 顯示 面板 驅(qū)動 方法 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括:
襯底,所述襯底包括顯示區(qū);
位于所述襯底上的多條掃描線和多條數(shù)據(jù)線,多條所述掃描線和多條所述數(shù)據(jù)線交叉且絕緣設置限定出多個呈矩陣排列的子像素;
位于所述襯底上呈陣列布置的多個觸控電極,所述觸控電極包括位于所述顯示區(qū)內(nèi)預設區(qū)域的多個第一電極和位于所述顯示區(qū)內(nèi)其余區(qū)域的多個第二電極,每個所述第一電極和每個所述第二電極的面積相同;
位于所述襯底上的多條指紋掃描線,所述指紋掃描線與所述掃描線平行設置,多條所述指紋掃描線和多條所述數(shù)據(jù)線交叉且絕緣設置限定出所述預設區(qū)域的所述子像素;
所述預設區(qū)域分為多個指紋檢測區(qū);
與所述指紋檢測區(qū)一一對應設置的第一開關管,每個所述第一開關管的第一端與一個指紋感測單元相連;所述第一開關管的第二端與一條提供指紋檢測信號的數(shù)據(jù)線連接,所述第一開關管的控制端與一條所述指紋掃描線相連,控制所述第一開關管的第一端和第二端是否導通;
柵極掃描電路;
其中,每條所述指紋掃描線與每條所述掃描線均通過選通單元連接至所述柵極掃描電路,使得所述指紋檢測區(qū)在第一時間段用于顯示,在第二時間段用于指紋檢測。
2.根據(jù)權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述選通單元包括:
兩組開關管組,每組開關管組均包括一個P型開關管和一個N型開關管;
所述P型開關管的第一端和所述N型開關管的第一端相連,并連接至所述指紋掃描線或所述掃描線;
所述P型開關管的第二端連接低電平電源;
所述N型開關管的第二端連接所述柵極掃描電路;
所述P型開關管的控制端和所述N型開關管的控制端相連,用于控制所述P型開關管的第一端和第二端是否導通,以及控制所述N型開關管的第一端和第二端是否導通。
3.根據(jù)權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,每個所述指紋檢測區(qū)對應的所述子像素個數(shù)為1個或2個或3個。
4.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,每個所述指紋檢測區(qū)對應一個所述子像素。
5.根據(jù)權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,還包括多條指紋數(shù)據(jù)線;多條所述指紋數(shù)據(jù)線與所述數(shù)據(jù)線平行設置;且多條所述指紋數(shù)據(jù)線與所述指紋掃描線交叉且絕緣設置,限定出位于所述第一電極在所述襯底上的投影內(nèi)的所述子像素;
所述指紋數(shù)據(jù)線通過所述第一開關管的第二端向所述指紋感測單元提供指紋信號。
6.根據(jù)權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,在每個所述指紋檢測區(qū)內(nèi),所述子像素的數(shù)據(jù)線通過所述第一開關管的第二端向所述指紋感測單元提供指紋信號。
7.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,每個所述指紋檢測區(qū)對應同一行中兩個相鄰的所述子像素,分別為第一子像素和第二子像素,所述指紋掃描線與所述第二子像素列對應的數(shù)據(jù)線交叉且絕緣設置,限定出多個所述指紋檢測區(qū)。
8.根據(jù)權利要求7所述的陣列基板,其特征在于,
在每個所述指紋檢測區(qū)內(nèi),所述第一子像素或所述第二子像素的數(shù)據(jù)線通過所述第一開關管的第二端向所述指紋感測單元提供指紋信號。
9.根據(jù)權利要求3所述的陣列基板,其特征在于,每個所述指紋檢測區(qū)對應同一行中三個相鄰的所述子像素,分別為第三子像素、第四子像素和第五子像素;所述指紋掃描線與所述第五子像素列對應的數(shù)據(jù)線交叉且絕緣設置,限定出多個所述指紋檢測區(qū)。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢天馬微電子有限公司,未經(jīng)武漢天馬微電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201711266605.5/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結構中的





