[發明專利]一種還原爐底盤及其涂層制備方法

有效

• 申請號: 201711265493.1
• 申請日: 2017-12-05
• 公開（公告）號: CN107986285B
• 公開（公告）日: 2018-11-20
• 發明（設計）人: 王體虎;黃仁忠;宗冰
• 申請（專利權）人: 亞洲硅業（青海）有限公司
• 主分類號: C01B33/035
• 分類號: C01B33/035;C04B35/10;C04B35/622;C23C12/00;C30B28/14;C30B29/06
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 劉振

1.一種還原爐底盤，采用不銹鋼制成，其特征在于：在不銹鋼底盤的表面噴涂有熱反射涂層，在電極卡槽表面以及靠近電極卡槽的底盤銀涂層表面噴涂有陶瓷涂層形成底盤表面絕緣面，在篩網表面亦噴涂有陶瓷涂層；所述熱反射涂層為銀涂層，所述陶瓷涂層為氧化鋁涂層。

2.根據權利要求1所述的還原爐底盤，其特征在于：所述電極卡槽為圓柱形凹槽，圓柱形凹槽的直徑與電極圓柱段的直徑相差0.5mm-5mm。

3.根據權利要求1所述的還原爐底盤，其特征在于：底盤表面絕緣面的內徑與所述電極卡槽的直徑相等且邊緣重合，底盤表面絕緣面的外徑與內徑的差值為60mm-80mm。

4.根據權利要求1所述的還原爐底盤，其特征在于：所述氧化鋁涂層采用氧化鋁為γ-氧化鋁制成。

5.根據權利要求1所述的還原爐底盤，其特征在于：所述篩網由高級奧氏體不銹鋼制作，該高級奧氏體不銹鋼中鉻含量≥18wt％、鎳含量≥32wt％、錳含量≥1.5wt％。

6.一種基于權利要求1所述的還原爐底盤的涂層制備方法，其特征在于：包含以下步驟，第一步，制備銀涂層，在底盤表面噴涂銀涂層，底盤表面包括底盤本體表面、電極卡槽表面和篩網表面；第二步，制備氧化鋁涂層，在底盤表面絕緣面、電極卡槽以及篩網表面噴涂氧化鋁形成陶瓷涂層；

銀涂層以及氧化鋁涂層的噴涂過程為，以拉法爾噴嘴加速經加熱的壓縮氣體作為工作載氣，高速的載氣加速原材料粉末從噴槍噴出，在低溫、高速和完全固態下碰撞還原爐底盤表面，原材料顆粒與還原爐底盤表面同時發生劇烈的塑性變形后沉積在底盤表面，進而通過顆粒的堆積效應形成具有高致密性、高熱穩定性、高強結合性能的涂層；所述原材料粉末分別為銀粉和氧化鋁粉，兩者分開噴涂，最后形成的涂層分別為銀涂層和氧化鋁涂層。

7.根據權利要求6所述的還原爐底盤的涂層制備方法，其特征在于：用于噴涂銀涂層的壓縮氣體為惰性氣體或氮氣，而惰性氣體包括氦氣，此壓縮氣體的工作壓力為0.5MPa-10Mpa；所述銀粉的粒徑為500nm-100μm，銀粉和壓縮氣體從噴槍噴出的噴射速度為500m/s-1500m/s，用于帶動銀粉的載氣的工作溫度為100℃-1100℃。

8.根據權利要求6所述的還原爐底盤的涂層制備方法，其特征在于：噴槍的槍口與還原爐底盤表面的距離為5mm-60mm。

9.根據權利要求6所述的還原爐底盤的涂層制備方法，其特征在于：用于噴涂氧化鋁涂層的壓縮氣體為惰性氣體或氮氣，而惰性氣體包括氦氣，此壓縮氣體的工作壓力為1MPa-30MPa；所述氧化鋁粉的粒徑為1μm-80μm，壓縮氣體和氧化鋁粉從噴槍噴出的噴射速度為650m/s-3000m/s，噴槍的槍口與還原爐底盤表面的距離為5mm-50mm，用于帶動氧化鋁粉的載氣的工作溫度為350℃-2200℃。