[發明專利]圖像處理方法、裝置、電子設備及計算機可讀存儲介質有效
| 申請號: | 201711262759.7 | 申請日: | 2017-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN109872275B | 公開(公告)日: | 2023-05-23 |
| 發明(設計)人: | 申建晶 | 申請(專利權)人: | 北京金山安全軟件有限公司 |
| 主分類號: | G06T3/40 | 分類號: | G06T3/40 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 馬敬;項京 |
| 地址: | 100085 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 圖像 處理 方法 裝置 電子設備 計算機 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種圖像處理方法,其特征在于,包括:
使用預設卷積神經網絡中除輸出層之外的其他網絡層,對待處理圖像的圖像數據進行運算,得到所述輸出層的輸入圖像;
基于所述輸入圖像的輸入圖像尺寸,所述輸出層的輸出圖像尺寸,以及所述輸出層的轉置卷積步長,計算針對所述輸入圖像的放大填充參數;
針對所述輸出層的輸出圖像的每個輸出位置,采用如下方式計算該輸出位置的像素點的像素值:
獲取該輸出位置對應的卷積核覆蓋范圍,所述卷積核覆蓋范圍為基于該輸出位置的位置信息和所述輸出層的卷積填充參數計算得到的;
基于所述卷積核覆蓋范圍,所述放大填充參數,所述轉置卷積步長,計算該輸出位置對應的輸入圖像覆蓋范圍;
基于所述輸入圖像覆蓋范圍,所述放大填充參數,所述卷積填充參數,所述轉置卷積步長,針對該輸出位置,確定所述預設卷積神經網絡的卷積核中,與所述輸入圖像中所述輸入圖像覆蓋范圍內的每個像素點分別對應的元素,所述像素點與對應的元素在放大填充圖像中的位置重合,所述放大填充圖像為將輸入圖像經過內部填充和邊緣填充后得到的圖像;
將輸入向量與卷積核向量進行點積運算,得到該輸出位置的像素點的像素值;其中,所述輸入向量為由所述輸入圖像覆蓋范圍內的所述輸入圖像的像素點的像素值按照預設順序組成的向量;所述卷積核向量為由與所述輸入圖像中所述輸入圖像覆蓋范圍內的每個像素點分別對應的元素,按照所述預設順序組成的向量。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述輸入圖像尺寸包括輸入圖像寬度值和輸入圖像高度值;所述輸出圖像尺寸包括輸出圖像寬度值和輸出圖像高度值;所述轉置卷積步長包括高度方向轉置卷積步長和寬度方向轉置卷積步長;
所述基于所述輸入圖像的輸入圖像尺寸,所述輸出層的輸出圖像尺寸,以及所述輸出層的轉置卷積步長,計算針對所述輸入圖像的放大填充參數,包括:
將所述輸入圖像寬度值減一后,與所述寬度方向轉置卷積步長相乘,得到寬度方向乘積結果,再將所述寬度方向乘積結果加一,得到內部填充圖像寬度值;將所述輸入圖像高度值減一后,與所述高度方向轉置卷積步長相乘,得到高度方向乘積結果,再將所述高度方向乘積結果加一,得到內部填充圖像高度值;
將所述輸出圖像寬度值與所述內部填充圖像寬度值的差值除以2后,向上取整,得到左側放大填充參數;將所述輸出圖像寬度值與所述內部填充圖像寬度值的差值再減去所述左側放大填充參數,得到右側放大填充參數;將所述輸出圖像高度值與所述內部填充圖像高度值的差值除以2后,向上取整,得到上方放大填充參數;將所述輸出圖像高度值與所述內部填充圖像高度值的差值再減去所述上方放大填充參數,得到下方放大填充參數。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述輸出位置的位置信息包括:輸出位置的橫坐標和輸出位置的縱坐標;所述卷積核覆蓋范圍包括卷積核覆蓋的橫坐標范圍和卷積核覆蓋的縱坐標范圍;所述卷積填充參數包括:左側卷積填充參數、右側卷積填充參數、上方卷積填充參數及下方卷積填充參數;其中,所述左側卷積填充參數等于卷積核寬度值減一后,除以2,再向下取整;所述右側卷積填充參數等于所述卷積核寬度值減一后,再減去所述左側卷積填充參數;所述上方卷積填充參數等于卷積核高度值減一后,除以2,再向下取整;所述下方卷積填充參數等于所述卷積核寬度值減一后,再減去所述上方卷積填充參數;
基于該輸出位置的位置信息和所述輸出層的卷積填充參數,采用如下步驟獲取該輸出位置對應的卷積核覆蓋范圍,包括:
該輸出位置的橫坐標減去所述左側卷積填充參數,得到所述卷積核覆蓋范圍中起始位置的橫坐標;該輸出位置的橫坐標加上所述右側卷積填充參數,得到所述卷積核覆蓋范圍中終止位置的橫坐標,其中,從所述起始位置的橫坐標開始,到所述終止位置的橫坐標為止,為所述卷積核覆蓋的橫坐標范圍;
該輸出位置的縱坐標減去所述上方卷積填充參數,得到所述卷積核覆蓋范圍中起始位置的縱坐標;輸出位置的縱坐標加上所述下方卷積填充參數,得到所述卷積核覆蓋范圍中終止位置的縱坐標,其中,從所述起始位置的縱坐標開始,到所述終止位置的縱坐標為止,為所述卷積核覆蓋的縱坐標范圍。
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