[發(fā)明專利]一種掩膜版表面缺陷檢測(cè)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201711260449.1
• 申請(qǐng)日: 2017-12-04
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108037140B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-04-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉建明;劉莊;張彥鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇維普光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/95
• 分類號(hào): G01N21/95
• 代理公司: 常州興瑞專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32308
• 代理人: 肖興坤

本發(fā)明公開(kāi)了一種掩膜版表面缺陷檢測(cè)方法，所述方法用于檢測(cè)具有鉻層和玻璃的掩膜版的表面缺陷，所述方法的步驟中含有：將帶有圖形的掩膜版放置于一檢測(cè)裝置中，并打開(kāi)檢測(cè)裝置的相機(jī)；打開(kāi)反射光源，調(diào)節(jié)反射光源的光源強(qiáng)度，使鉻層的反射亮區(qū)的灰度值達(dá)到預(yù)期設(shè)定值V1；關(guān)閉反射光源，打開(kāi)透射光源，調(diào)節(jié)透射光源的光源強(qiáng)度，使玻璃透過(guò)的透射亮區(qū)的灰度值達(dá)到預(yù)期設(shè)定值V1；同時(shí)打開(kāi)反射光源和透射光源，按照檢測(cè)區(qū)域?qū)ρ谀ぐ孢M(jìn)行圖像數(shù)據(jù)采集，然后設(shè)定圖像的缺陷像素閾值T：當(dāng)實(shí)際的像素灰度值V滿足|V?V1|>T時(shí)，則認(rèn)定該像素是缺陷。本發(fā)明能夠同時(shí)檢測(cè)出鉻層和玻璃上的顆粒劃痕等缺陷，從而提高掩膜版表面缺陷檢測(cè)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種掩膜版表面缺陷檢測(cè)方法。

背景技術(shù)

目前，半導(dǎo)體掩膜版蝕刻后，如果表面的顆粒劃痕過(guò)大也會(huì)導(dǎo)致后續(xù)芯片的光刻存在問(wèn)題，甚至是致命問(wèn)題，而且掩膜版使用多次以后，會(huì)積累微小顆粒甚至是劃痕，如果用反射光檢測(cè)，如圖1所示，只能發(fā)現(xiàn)鉻層的缺陷，不能很好發(fā)現(xiàn)玻璃上的顆粒，如果用透射光檢測(cè)，如圖2所示，只能發(fā)現(xiàn)玻璃上的缺陷，不能發(fā)現(xiàn)鉻層上的顆粒缺陷，要同時(shí)檢測(cè)出玻璃和鉻層上的表面缺陷，正常流程就是得檢測(cè)兩次，第一次用發(fā)射光進(jìn)行檢測(cè)，然后關(guān)閉反射光源，用透射光進(jìn)行檢測(cè)，雖然這種常見(jiàn)的方式是可以解決表面顆粒缺陷的檢測(cè)問(wèn)題，但這樣勢(shì)必影響表面缺陷檢測(cè)效率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種掩膜版表面缺陷檢測(cè)方法，它能夠同時(shí)檢測(cè)出鉻層和玻璃上的顆粒劃痕等缺陷，從而提高掩膜版表面缺陷檢測(cè)效率。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種掩膜版表面缺陷檢測(cè)方法，所述方法用于檢測(cè)具有鉻層和玻璃的掩膜版的表面缺陷，所述方法的步驟中含有：

步驟S01：將帶有圖形的掩膜版放置于一檢測(cè)裝置中，并打開(kāi)檢測(cè)裝置的相機(jī)；其中，所述檢測(cè)裝置具有反射光源和透射光源；

步驟S02：打開(kāi)反射光源，調(diào)節(jié)反射光源的光源強(qiáng)度，使鉻層的反射亮區(qū)的灰度值達(dá)到預(yù)期設(shè)定值V1；

步驟S03：關(guān)閉反射光源，打開(kāi)透射光源，調(diào)節(jié)透射光源的光源強(qiáng)度，使玻璃透過(guò)的透射亮區(qū)的灰度值達(dá)到預(yù)期設(shè)定值V1；

步驟S04：同時(shí)打開(kāi)經(jīng)過(guò)步驟S02調(diào)節(jié)后的光源強(qiáng)度的反射光源和經(jīng)過(guò)步驟S03調(diào)節(jié)后的光源強(qiáng)度的透射光源，按照檢測(cè)區(qū)域?qū)ρ谀ぐ孢M(jìn)行圖像數(shù)據(jù)采集，然后設(shè)定圖像的缺陷像素閾值T：當(dāng)實(shí)際的像素灰度值V滿足|V-V1|>T時(shí)，則認(rèn)定該像素是缺陷。

進(jìn)一步，所述預(yù)期設(shè)定值V1＝200。

進(jìn)一步，檢測(cè)裝置還包括檢測(cè)夾具和物鏡，在步驟S01中，將帶有圖形的掩膜版放置于檢測(cè)夾具中，并移入到物鏡焦深范圍內(nèi)，保證圖像清晰。

進(jìn)一步，在步驟S04中，在圖像數(shù)據(jù)采集和設(shè)定缺陷像素閾值T之間還包括：圖像數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波處理，消除掉圖像邊緣和噪聲干擾。

進(jìn)一步，在步驟S04中，通過(guò)設(shè)定缺陷像素閾值T的大小來(lái)調(diào)整檢測(cè)缺陷的靈敏度。

進(jìn)一步，通過(guò)減小缺陷像素閾值T，提高檢測(cè)缺陷的靈敏度。

采用了上述技術(shù)方案后，通過(guò)本發(fā)明的方法可以同時(shí)在反射光源和透射光源都打開(kāi)的情況下，一次性檢測(cè)掩膜版的鉻層和玻璃上的顆粒劃痕等缺陷，從而提高掩膜版表面缺陷檢測(cè)效率。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)的掩膜版上的反射光照明示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)的掩膜版上的透射光照明示意圖；

圖3為本發(fā)明的掩膜版上反射光和透射光同時(shí)照明的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式