[發明專利]一種蒸鍍用掩膜組件

有效

• 申請號: 201711257634.5
• 申請日: 2017-11-30
• 公開（公告）號: CN107978676B
• 公開（公告）日: 2019-11-26
• 發明（設計）人: 余威
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 44280 深圳市威世博知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 袁江龍<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.一種蒸鍍用掩膜組件，其特征在于，包括：

框架，用于設置掩膜墊；

支撐件，與所述框架相連接以用于承托所述掩膜墊；

掩膜墊，設于所述支撐件上以用于平衡所述支撐件因重力下垂產生的形變高度差；

其中，所述支撐件呈長條狀，所述支撐件的兩端與所述框架相連接，所述掩膜墊與所述支撐件一體成型，所述掩膜墊為多個，間隔分布設置在所述支撐件上，多個所述掩膜墊的厚度與所述形變高度差相匹配，所述掩膜墊的厚度分布是從中央到邊緣逐漸降低。

2.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩膜組件，其特征在于，所述掩膜墊、所述支撐件與所述框架一體成型。

3.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩膜組件，其特征在于，

所述掩膜墊朝上凸出于所述支撐件。

4.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩膜組件，其特征在于，

所述掩膜墊與所述支撐件的材質相同。

5.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩膜組件，其特征在于，

所述掩膜墊是塑膠件。

6.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩膜組件，其特征在于，

所述掩膜墊是磁性件。

7.根據權利要求1所述的蒸鍍用掩膜組件，其特征在于，

所述掩膜墊的一部分為柱體狀，所述支撐件設有插孔，用于容置所述掩膜墊的柱體狀部分。